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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 | 10-2007-0111386 (2007-11-02) |
공개번호 | 10-2009-0045522 (2009-05-08) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020070111386 |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사진행상태 | 취하(심사미청구) |
법적상태 | 취하 |
본 발명은 이차이온질량분석기에서 왜곡없이 저농도영역을 분석할 수 있는 이차이온질량분석기 분석방법을 제공하기 위한 것으로, 본 발명은 저농도영역과 고농도영역이 적층된 샘플과 순수 실리콘으로 이루어진 실리콘막을 준비하는 단계; 상기 샘플의 고농도영역에 이온빔을 충돌시켜 불순물의 농도를 측정하는 단계; 상기 실리콘 막에 이온빔을 충돌시켜 상기 불순물이 흡착된 렌즈 스트립을 실리콘이온으로 덮는 단계; 상기 샘플의 저농도영역에 이온빔을 충돌시켜 불순물의 농도를 측정하는 단계하고, 고농도영역 분석 후 저농도영역 분석 전에 기억효과를 제거함으로
저농도영역과 고농도영역이 적층된 샘플과 순수 실리콘으로 이루어진 실리콘막을 준비하는 단계;상기 샘플의 고농도영역에 이온빔을 충돌시켜 불순물의 농도를 측정하는 단계;상기 실리콘 막에 이온빔을 충돌시켜 상기 불순물이 흡착된 렌즈 스트립을 실리콘이온으로 덮는 단계; 및상기 샘플의 저농도영역에 이온빔을 충돌시켜 불순물의 농도를 측정하는 단계를 포함하는 이차이온질량분석기 분석방법.제1항에 있어서,상기 고농도영역은 불순물이 도핑된 폴리실리콘막이고, 상기 저농도영역은 기판인 이차이온질량분석기 분석방법.제2항에 있어서,상기 고농도영역은 P형 불순
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