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SIMS에 의한 정량분석법 개발 (3차년도)
Development of a quantitative analysis method Secondary Ion Mass Spectrometry 원문보기

보고서 정보
주관연구기관 한국표준연구소
Korea Research Institute of Standards and Science
연구책임자 문대원
참여연구자 김현경 , 김양선 , 김경중 , 강희재 , 이재철
발행국가대한민국
언어 한국어
발행년월1990-11
주관부처 과학기술부
사업 관리 기관 한국표준과학연구원
Korea Research Institute of Standards and Science
등록번호 TRKO200200002566
DB 구축일자 2013-04-18
키워드 깊이분해능.이차이온 질량분석기.Cr/Ni.깊이분포도.CsI.TOF-SIMS.Switching magnet.Depth resolution.SIMS.Cr/Ni.Depth profile CsI.TOF-SIMS.Switching magnet.

초록

국내 반도체 산업 및 신소재 분야에서 사용되고 있는 SIMS 정량 분석법의 개발을 위해 Time-of-Flight SIMS의 개발, Depth Profiling 방법의 표준화, 이온 주입 표준 시료 개발법 연구 등에 대하여 매질 효과에 대한 연구, 매질 효과가 적은 Direct Recoil 방법 연구, TOF-SIMS의 제작 설계, 이온 주입법 연구 등을 수행했다.

목차 Contents

  • 제1장 개 괄...10
  • 제1절 서 설...10
  • 제2절 연구개발의 배경 및 필요성...13
  • 제3절 연구개발의 목표...16
  • 제4절 연구개발의 내용 및 결과...17
  • 제2장 SIMS에 의한 원소의 깊이분포 측정...18
  • 제1절 실험적 요인...19
  • 제2절 Atomic Mixing and Selective Sputtering...22
  • 제3절 이온빔 조건과 시료의 영향...27
  • 제4절 Segregation 효과...31
  • 제5절 결 론...33
  • 제3장 Quadrupole SIMS에 의한 깊이분해능에 관한 연구...34
  • 제1절 서설...34
  • 제2절 실험...35
  • 제3절 결과 및 토의...36
  • 제4절 결론...50
  • 참고문헌...51
  • 제4장 충돌 Cascade에 대한 이론적 연구...52
  • 참고문헌...60
  • 제5장 TOF-SIMS에 의한 매질효과에 관한 연구...61
  • 제1절 서설...61
  • 제2절 실 험...63
  • 제3절 결과 및 토의...65
  • 참고문헌...73
  • 제6장 변환자석의 제작...75

연구자의 다른 보고서 :

참고문헌 (25)

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