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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2007-7014043 (2007-06-21) |
공개번호 | 10-2007-0089184 (2007-08-30) |
국제출원번호 | PCT/EP2005/013774 (2005-12-21) |
국제공개번호 | WO2006069694 (2006-07-06) |
번역문제출일자 | 2007-06-21 |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020077014043 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사진행상태 | 거절결정(일반) |
법적상태 | 거절 |
본 발명은 냉각제로 냉각되는 2개 이상의 반응 대역, 및 반응 대역 사이에 배열되어 반응 대역 사이에서 반응 혼합물을 중간 냉각시키기 위해 사용되는 하나 또는 여러 장치를 포함하는 설비에서, o-크실롤 및/또는 나프탈린을 산소 포함 가스를 사용하여 촉매적으로 부분 산화시킴으로써 프탈산 무수물을 제조하는 방법에 관한 것이다. 제2 또는 추가 반응 대역으로 도입될 때의 냉각제의 온도는 제1 반응 대역으로 도입될 때의 냉각제의 온도보다 낮으며, 제1 반응 대역으로 도입될 때의 냉각제의 온도가 제2 또는 추가 반응 대역으로 도입될 때의
- 냉각제로 냉각되는 2개 이상의 반응 대역, 및- 반응 대역 사이에서 반응 혼합물을 중간 냉각시키기 위해 반응 대역 사이에 배열되어, 제1 반응 대역으로의 입구에서의 냉각제의 온도에 비해 제2 또는 추가 반응 대역으로의 입구에서의 냉각제의 온도를 감소시키는 하나 이상의 장치를 포함하며, 제1 반응 대역으로의 입구에서의 냉각제의 온도가 제2 또는 추가 반응 대역으로의 입구에서의 냉각제의 온도보다 20˚ 이상 높은 플랜트에서,O-크실렌 및/또는 나프탈렌을 산소 포함 가스를 사용하여 촉매적으로 부분 산화시킴으로써 프탈산 무수물을 제조하
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