IPC분류정보
국가/구분 |
한국(KR)/등록특허
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 |
10-2007-7024412
(2007-10-24)
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공개번호 |
10-2007-0116654
(2007-12-10)
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등록번호 |
10-0934401-0000
(2009-12-21)
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국제출원번호 |
PCT/JP2006/303124
(2006-02-22)
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국제공개번호 |
WO2006117920
(2006-11-09)
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번역문제출일자 |
2007-10-24
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DOI |
http://doi.org/10.8080/1020077024412
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발명자
/ 주소 |
- 가와시마, 사토시
/ 일본 ******* 사이타마현 사이타마시 키타구 요시노쵸 *쵸메 *번*호 멜텍스 가부시키가이샤 연구부내
- 타시로 히로유키
/ 일본 ******* 사이타마현 사이타마시 키타구 요시노쵸 *쵸메 *번*호 멜텍스 가부시키가이샤 연구부내
- 에무라 시게노리
/ 일본 ******* 사이타마현 사이타마시 키타구 요시노쵸 *쵸메 *번*호 멜텍스 가부시키가이샤 연구부내
- 나시야마, 다카미츠
/ 일본 ******* 사이타마현 사이타마시 키타구 요시노쵸 *쵸메 *번*호 멜텍스 가부시키가이샤 연구부내
- 산페이 히데유키
/ 일본 ******* 사이타마현 사이타마시 키타구 요시노쵸 *쵸메 *번*호 멜텍스 가부시키가이샤 연구부내
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출원인 / 주소 |
- 멜텍스 가부시키가이샤 / 일본 도쿄 추오쿠 히가시-니혼바시 *쪼메 **-*
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대리인 / 주소 |
-
조현동;
정종옥;
진천웅
(Cho, Hyun Dong)
-
서울특별시 강남구 도곡*동 ***-*번지 덕영빌딩 *층 (노벨국제특허법률사무소);
서울특별시 강남구 도곡*동 ***-*번지 덕영빌딩 *층 (노벨국제특허법률사무소);
서울특별시 강남구 도곡*동 ***-*번지 덕영빌딩 *층 (노벨국제특허법률사무소)
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심사청구여부 |
있음 (2007-10-24) |
심사진행상태 |
등록결정(일반) |
법적상태 |
등록 |
초록
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본 발명은 장기 보관하여도 슬러지의 생성을 일으키기 어렵고, 용액 수명이 비약적으로 긴 주석 도금액의 제공을 목적으로 한다. 상기 과제를 달성하기 위한 본 발명은 전해법으로 주석 도금을 행하기 위한 주석 도금액으로서, 주석 이온 공급원인 주석염을 주석 환산으로 5g/L~30g/L 함유하고, 상기 주석 이온을 킬레이트화하여 안정화시키는 킬레이트제 및 pH 조정제를 포함하는 것을 특징으로 한다. 그리고, 상기 주석 도금액의 조정 방법은 중성 내지 알칼리성의 용액 중에 메탄 설폰산 주석을 첨가하여 주석 킬레이트 착체를 형성시키는 것에
본 발명은 장기 보관하여도 슬러지의 생성을 일으키기 어렵고, 용액 수명이 비약적으로 긴 주석 도금액의 제공을 목적으로 한다. 상기 과제를 달성하기 위한 본 발명은 전해법으로 주석 도금을 행하기 위한 주석 도금액으로서, 주석 이온 공급원인 주석염을 주석 환산으로 5g/L~30g/L 함유하고, 상기 주석 이온을 킬레이트화하여 안정화시키는 킬레이트제 및 pH 조정제를 포함하는 것을 특징으로 한다. 그리고, 상기 주석 도금액의 조정 방법은 중성 내지 알칼리성의 용액 중에 메탄 설폰산 주석을 첨가하여 주석 킬레이트 착체를 형성시키는 것에 특징이 있다.
대표청구항
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전해법으로 주석 도금을 행하기 위한 주석 도금액으로서,주석 이온 공급원인 주석염을 주석 환산으로 5G/L~30G/L 함유하고, 주석 이온을 킬레이트화하여 안정화시키는 킬레이트제 및 PH 조정제를 포함함으로써 슬러지가 7일 이상 발생하지 않는 것을 특징으로 하는 주석 도금액.제1항에 있어서, 상기 주석염은 물에 대하여 가용성인 제1 주석염으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상인 것을 특징으로 하는 주석 도금액.제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 킬레이트제는 글루콘산, 글루콘산염, 구연산, 구연산염, 피로인산, 피로인산염으로부터 선택되
전해법으로 주석 도금을 행하기 위한 주석 도금액으로서,주석 이온 공급원인 주석염을 주석 환산으로 5G/L~30G/L 함유하고, 주석 이온을 킬레이트화하여 안정화시키는 킬레이트제 및 PH 조정제를 포함함으로써 슬러지가 7일 이상 발생하지 않는 것을 특징으로 하는 주석 도금액.제1항에 있어서, 상기 주석염은 물에 대하여 가용성인 제1 주석염으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상인 것을 특징으로 하는 주석 도금액.제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 킬레이트제는 글루콘산, 글루콘산염, 구연산, 구연산염, 피로인산, 피로인산염으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상이 30G/L~300G/L 농도가 되도록 포함되는 것을 특징으로 하는 주석 도금액.제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 PH 조정제는 알칼리성 PH 조정제로서, 수산화 나트륨, 수산화 칼륨, 암모니아수로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상이 5G/L~140G/L 농도가 되도록 포함되는 것을 특징으로 하는 주석 도금액.제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 PH 조정제는 산성 PH 조정제로서, 메탄 설폰산, 에탄 설폰산, 황산, 이세티온산으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상이 10G/L~300G/L 농도가 되도록 포함되는 것을 특징으로 하는 주석 도금액.제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 산화 방지제가 0.1G/L~30G/L 농도가 되도록 더 포함되는 것을 특징으로 하는 주석 도금액.제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 PH 조정제는 주석 도금액의 PH를 산성측으로 미조정하기 위한 것으로, 메탄 술폰산, 황산의 1종 또는 2종이고, 상기 메탄 술폰산, 황산의 1종 또는 2종을 포함함으로써, PH가 4~10의 범위내인 것을 특징으로 하는 주석 도금액.제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 PH 조정제는 상기 주석 도금액의 PH를 알칼리측으로 미조정하기 위한 것으로, 수산화 나트륨, 수산화 칼륨, 암모니아수의 1종 또는 2종이고, 상기 수산화 나트륨, 수산화 칼륨, 암모니아수의 1종 또는 2종을 포함함으로써, PH가 4~10의 범위 내인 것을 특징으로 하는 주석 도금액.제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 도전염으로서 황산나트륨, 황산 암모늄으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상을 1G/L~150G/L 농도가 되도록 더 포함하는 것을 특징으로 하는 주석 도금액.제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 광택제로서 비이온 계면활성제, 양이온 계면활성제, 양성 계면활성제로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상을 0.1G/L~30G/L 농도가 되도록 더 포함하는 것을 특징으로 하는 주석 도금액.제1항 내지 제10항 중 어느 한 항의 주석 도금액을 이용한 주석 도금 방법으로, 욕온 10℃~40℃의 조건으로 전해하는 것을 특징으로 하는 주석 도금 방법.제1항 내지 제10항 중 어느 한 항의 주석 도금액을 조정하는 방법으로, A) 물, PH 조정제 및 킬레이트제를 혼합하여 PH 수치가 6~12인 혼합 용액을 제조하고,B) 상기 혼합 용액에 주석염을 주석 함유량이 5G/L~30G/L 농도가 되도록 첨가하고 충분히 교반하여 주석 킬레이트 착체를 형성시킴으로써 주석 도금액을 제조하는 것을 특징으로 하는 주석 도금액 조정 방법.제12항에 있어서, 상기 주석 도금액에 산화 방지제를 첨가하는 공정을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 주석 도금액 조정 방법.제12항에 있어서, 상기 주석 도금액의 PH 수치를 미조정하는 공정을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 주석 도금액 조정 방법.제12항에 있어서, 상기 주석 도금액에 도전염을 첨가하는 공정을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 주석 도금액 조정 방법.제12항에 있어서, 상기 주석 도금액에 광택제를 첨가하는 공정을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 주석 도금액 조정 방법.제1항 내지 제10항 중 어느 한 항의 주석 도금액을 이용한 주석 도금층을 구비한 것을 특징으로 하는 칩(CHIP) 부품.
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