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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 | 10-2007-7028816 (2007-12-10) |
공개번호 | 10-2008-0016843 (2008-02-22) |
등록번호 | 10-0993516-0000 (2010-11-04) |
국제출원번호 | PCT/JP2006/311814 (2006-06-13) |
국제공개번호 | WO2006134902 (2006-12-21) |
번역문제출일자 | 2007-12-10 |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020077028816 |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2008-04-22) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 소멸 |
비이온성 계면활성제와 암모늄 화합물을 함유하는 염기성 수용액으로 이루어지는 포토레지스트 현상액에 있어서, 소정의 비이온성 계면활성제를 0.5∼10질량% 함유시키고, 소정의 암모늄 화합물을 0.01∼5.0질량% 함유시킴으로써, 후막 레지스트를 현상한 경우에도 스컴(scum)을 발생시키지 않고 양호한 패턴 형성을 할 수 있는 포토레지스트 현상액을 제공한다.
비이온성 계면활성제와 암모늄 화합물을 함유하는 염기성 수용액으로 이루어지는 포토레지스트 현상액으로서, 상기 비이온성 계면활성제가 1종 또는 2종 이상의 알킬렌옥사이드기의 반복 구조를 갖고, 또한 그 알킬렌옥사이드기를 11∼70단위 갖는 비이온성 계면활성제이며, 그 함유량이 상기 포토레지스트 현상액 전체의 질량을 100질량%로 하여, 1∼7질량%이며, 상기 암모늄 화합물이 하기 일반식(1)(식(1) 중, R1은 탄소수 4∼40의 유기기이며, R2, R3 및 R4는 각각 독립적으로 탄소수 1∼20의 유기기이거나, 혹은, 그 중의 2개
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