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ＰＤＭＳ를 이용한 나노 소자의 제조방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC9판)
  • B82B-003/00
  • H01L-021/027
출원번호 10-2008-0001619 (2008-01-07)
공개번호 10-2009-0075957 (2009-07-13)
등록번호 10-0969478-0000 (2010-07-02)
DOI http://doi.org/10.8080/1020080001619
발명자 / 주소
  • 이종흔 / 경기 과천시 별양동 *번지 주공*단지 ***동 ***호
  • 황인성 / 대구 동구 동내동 ***번지
  • 김선중 / 서울 도봉구 도봉*동 동아에코빌 ***동 ***호
  • 김윤성 / 서울 종로구 평창동 평창 힐스 ***-***
출원인 / 주소
  • 고려대학교 산학협력단 / 서울 성북구 안암동*가* 고려대학교 내
대리인 / 주소
  • 특허법인대아
심사청구여부 있음 (2008-01-07)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 소멸

초록

본 발명은 PDMS(Polydimethylsiloxane)를 이용한 나노 소자의 제조방법에 관한 것으로, PDMS(Polydimethylsiloxane) 패턴을 이용하여 전극 패턴 상에 선택적으로 나노 구조체를 균일하게 정렬하는 공정을 제공함으로써, 종래의 나노 구조체 소자 제조 방법보다 공정이 간단하고, 공정시간이 짧으며, 제조단가가 낮고, 대규모 스케일에서도 공정이 가능하게 하고 또한 가스, 바이오 및 광센서 등의 나노 소자를 손쉽게 구현할 수 있도록 하는 발명에 관한 것이다.

대표청구항

전극 패턴이 형성된 반도체 기판 상에 상기 전극 패턴을 선택적으로 노출시키는 PDMS(Polydimethylsiloxane)을 형성하고, 상기 노출된 전극 패턴 상에나노 구조체를 형성하는 것을 특징으로 하는 나노 소자의 제조 방법.

발명자의 다른 특허 :

이 특허를 인용한 특허 (1)

  1. [한국] 탄소소재를 이용한 유류흡착시트 및 그의 제조방법 | 안지훈, 김채은, 박진, 원종호, 이종섭, 이승원
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