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연합인증

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대구경 고품질 탄화규소 단결정 잉곳 성장을 위한 종자정 부착 방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC9판)
  • C30B-029/36
출원번호 10-2008-0004382 (2008-01-15)
공개번호 10-2009-0078516 (2009-07-20)
등록번호 10-1000890-0000 (2010-12-07)
DOI http://doi.org/10.8080/1020080004382
발명자 / 주소
  • 구갑렬 / 부산광역시 부산진구 범천동 ***-*번지 대원APT *동 ***호
  • 서정두 / 부산광역시 동구 수정*동 ***-**번지 *통*반
  • 이원재 / 부산광역시 부산진구 가야 산**번지 동의대학교 정보공학관 *층 전자세라믹스센터
  • 김정규 / 부산광역시 부산진구 가야*동 산 **번지 동의대학교 전자세라믹스연구센터
  • 김정곤 / 경상남도 진주시 하대동 **-* 번지 **/* 하대 @ ***동 ***호
출원인 / 주소
  • 에스케이씨 주식회사 / 경기 수원시 장안구 정자동 ***번지
대리인 / 주소
  • 남승희
심사청구여부 있음 (2008-01-15)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 등록

초록

탄화규소 단결정은 화학양론적인 용액으로부터 성장시키기 위해서는 열역학적으로 다이아몬드 합성과 비슷한 100,000기압 이상의 압력과 3,200℃ 이상의 온도가 필요하기 때문에 주로 승화 방식을 이용한 PVT(Physical Vapor Transport)법, 즉 종자정 성장 승화법(seeded growth sublimation)을 산업적으로 많이 이용하여 단결정 잉곳을 제조하고 있다.본 발명은 대구경 고품질 탄화규소 단결정 잉곳 성장을 위해 사용되는 탄화규소 종자정 부착 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 탄화규소 단결정 잉곳 성장

대표청구항

물리적 기상 증착법(Physical Vapor Doposition), 화학적 기상 증착법(Chemical Vapor Deposition), HTCVD법, CVI(Chemical Vapor Infiltration)법, CST(Close Space Technique)법 등에 의해 탄화규소 완충 피막(SiC buffer layer)이 균일하게 형성된 그라파이트 종자정 홀더 표면에 접착제를 사용하여 탄화규소 종자정을 부착하는 대구경 고품질 탄화규소 단결정 잉곳 성장을 위한 종자정 부착 방법

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