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ZnO TFT의 제조방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC9판)
  • H01L-029/786
출원번호 10-2008-0024208 (2008-03-17)
공개번호 10-2009-0099140 (2009-09-22)
등록번호 10-0996644-0000 (2010-11-19)
DOI http://doi.org/10.8080/1020080024208
발명자 / 주소
  • 박상희 / 대전 유성구 전민동 엑스포아파트 ***-***
  • 황치선 / 대전 유성구 전민동 삼성푸른아파트 ***-****호
  • 변춘원 / 대전 유성구 가정동 한국전자통신연구원 기숙사 신관 ***호
  • 양신혁 / 경기 용인시 수지구 죽전동 **블록 푸르지오아파트 ***-***
  • 이정익 / 경기 성남시 분당구 야탑동 장미현대 ***-****
  • 조두희 / 대전 유성구 노은동 ***-* 노은노블레스 ****호
  • 신재헌 / 대전 서구 만년동 강변아파트 ***-****
  • 유민기 / 서울 노원구 상계*동 벽산아파트 ***-***
  • 윤성민 / 대전 서구 관저동 구봉마을아파트 ***동 ***호
  • 정우석 / 대전 유성구 어은동 한빛아파트 ***-***호
  • 권오상 / 대전 유성구 지족동 열매마을아파트 ***동 ****호
  • 박은숙 / 대전 중구 태평*동 ***-**
  • 추혜용 / 대전 유성구 전민동 나래아파트 ***-***
출원인 / 주소
  • 한국전자통신연구원 / 대전 유성구 가정동 ***번지
대리인 / 주소
  • 신영무
심사청구여부 있음 (2008-03-17)
심사진행상태 등록결정(심사전치후)
법적상태 소멸

초록

본 발명은 ZnO TFT의 제조방법에 관한 것이다.본 발명에 따른 ZnO TFT의 제조방법은 최적의 공정 조건하에서 아연 전구체와 산소 전구체를 이용하여 원자층 증착법을 통해 이상적인 조성의 ZnO 반도체막을 형성하는 단계를 포함하며, 또한 원자층 증착법을 이용하여 플라즈마 발생을 포함하는 공정을 사용하지 않는 공정으로 일차 절연막을 형성함에 따라 소자의 성능, 특히 이동도와 신뢰성을 개선시킬 수 있다.

대표청구항

삭제

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (2)

  1. [한국] ZnO 박막을 포함하는 트랜지스터의 제조방법 | 박상희, 황치선, 추혜용, 이정익, 이진홍, 곽호상, 이용의, 강승열
  2. [한국] 유기 박막 트랜지스터 제조 방법 | 윤선진, 임정욱, 이진호, 백규하, 도이미

이 특허를 인용한 특허 (5)

  1. [한국] 박막 트랜지스터 및 그 제조 방법 | 김재호, 오동건, 최도현
  2. [한국] 박막 트랜지스터 및 그 제조 방법 | 김재호
  3. [한국] 박막 트랜지스터 및 그 제조 방법 | 김재호
  4. [한국] 박막 트랜지스터 및 그 제조 방법 | 김재호
  5. [한국] 투명 활성층, 이를 포함하는 박막 트랜지스터, 및 그 제조 방법 | 성명모, 한규석, 윤관혁
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