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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 | 10-2008-0049746 (2008-05-28) |
공개번호 | 10-2009-0123588 (2009-12-02) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020080049746 |
발명자 / 주소 | |
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2008-05-28) |
심사진행상태 | 거절결정(일반) |
법적상태 | 거절 |
본 발명은 비스페놀-F 제조 방법에 관한 것으로서, 2 단계 탈기 공정을 포함, 즉 주반응 단계, 상압 탈기 단계, 1 차 진공 탈기 단계, 반응기 이송 단계, 2 차 진공 탈기를 포함하여 구성됨으로써,비스페놀-F의 순도 향상 및 페놀 회수율 증대를 기할 수 있다.
2 단계 탈기 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 비스페놀-F 제조 방법.제 1 항에 있어서,상기 비스페놀-F 제조 방법은 주반응 단계, 상압 탈수 단계, 1 차 진공 탈기 단계, 반응기 이송 단계, 2 차 진공 탈기를 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 비스페놀-F 제조 방법.제 2 항에 있어서,상기 주반을 단계는 페놀 80 내지 90 중량%, 물 15 내지 5 중량%, 포르말린 5 내지 10 중량%, 촉매 미량에 포르말린을 부가하는 공정인 것을 특징으로 하는 비스페놀-F 제조 방법.제 2 항에 있어서,상기 상압 탈기 단계는 10
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