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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 | 10-2008-7003380 (2008-02-12) | |
공개번호 | 10-2008-0038158 (2008-05-02) | |
등록번호 | 10-1327650-0000 (2013-11-04) | |
우선권정보 | 일본(JP) JP-P-2005-00224582 (2005-08-02) | |
국제출원번호 | PCT/JP2006/315238 (2006-08-01) | |
국제공개번호 | WO 2007/015496 (2007-02-08) | |
번역문제출일자 | 2008-02-12 | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020087003380 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2011-04-12) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 소멸 |
공기 주입 타이어의 트레드부를 성형하는 타이어 가황 금형의 섹터의 성형면에 부착되는 오염물과 화학 반응하는 반응 가스 분위기 중에서 생성된 플라즈마를 사용하여 섹터의 성형면을 세정하는 타이어 가황 금형의 세정 방법이다. 세정 처리조 내의 전극 테이블 상에 섹터를 배치하는 공정과, 세정 처리조 내를 감압하면서, 그 세정 처리조 내에 반응 가스를 공급하는 공정과, 방전용 전극에 고주파 전력을 공급하여 방전용 전극과 섹터의 성형면 사이에 플라즈마를 생성시키는 공정과, 전극 테이블에 방전용 전극에 공급되는 고주파보다 낮은 주파수의 고주파
공기 주입 타이어의 트레드부를 성형하는 타이어 가황 금형의 섹터의 성형면에 부착되는 오염물과 화학 반응하는 반응 가스 분위기 중에서 생성된 플라즈마를 사용하여 상기 섹터의 성형면을 세정하는 타이어 가황 금형의 세정 방법으로서,세정 처리조 내의 전극 테이블 상에 상기 섹터를 그 섹터의 성형면을 방전용 전극에 대면하게 배치하는 공정과,상기 세정 처리조 내를 감압하면서, 그 세정 처리조 내에 상기 반응 가스를 공급하는 공정과, 상기 방전용 전극에 고주파 전력을 공급하여 상기 방전용 전극과 상기 섹터의 성형면 사이에 플라즈마를 생성시키는
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