[특허]ＥＵＶ 리소그래피용 반사형 마스크 블랭크

IPC분류정보
국가/구분	한국(KR)/등록특허	크게보기
국제특허분류(IPC9판)	H01L-021/027
출원번호	10-2008-7016849 (2008-07-11)
공개번호	10-2008-0092363 (2008-10-15)
등록번호	10-1287697-0000 (2013-07-12)
우선권정보	미국(US) 11/330,205 (2006-01-12)
국제출원번호	PCT/JP2007/050845 (2007-01-12)
국제공개번호	WO 2007/081059 (2007-07-19)
번역문제출일자	2008-07-11
DOI	http://doi.org/10.8080/1020087016849
발명자 / 주소	이쿠타 요시아키 / 일본 도쿄도 지요다쿠 유라쿠쵸 쵸메 - 아사히 가라스가부시키가이샤 나이 우노 도시유키 / 미국 *** 뉴욕주 길더랜드 헤리티지 로드 * 넘버* 에비하라 겐 / 일본 도쿄도 지요다쿠 유라쿠쵸 쵸메 - 아사히 가라스가부시키가이샤 나이
출원인 / 주소	아사히 가라스 가부시키가이샤 / 일본 도쿄도 지요다쿠 마루노우치 쵸메 방 *고
대리인 / 주소	특허법인코리아나
심사청구여부	있음 (2011-09-02)
심사진행상태	등록결정(일반)
법적상태	등록

초록

기판의 표면에 형성된 막과 기판의 이면에 형성된 막 간의 전기 접속을 제거함으로써 막의 형성 시 반사층 또는 흡수층의 면에 또는 반사층 또는 흡수층으로 파티클이 고정되는 것을 방지할 수 있는 반사층을 구비한 기판 및 EUV 마스크 블랭크를 제공한다. EUV 리소그래피용 반사 마스크 블랭크를 제조하는데 유용한 반사층을 구비한 기판은 반사층을 갖는 면과 반대편인 이면에 형성된 흡착층을 포함하고, 흡착층은 정전척에 의해 기판을 흡착 및 유지하도록 작용하며, 반사층은 흡착층과의 전기 접속을 갖지 않는다.

대표청구항

EUV 리소그래피용 반사형 마스크 블랭크의 제조에 사용 가능한 반사층을 구비한 기판으로서,상기 반사층이 형성되어 있는 전면 (front surface) 과 반대의 면인 이면 상에 형성되며, 정전척에 의해 상기 기판을 흡착 및 유지하도록 작용하는 흡착층을 포함하고, 상기 반사층과 상기 흡착층 간의 저항값은 1 ㏁ 이상인, 반사층을 구비한 기판.

IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

내보내기 구분	파일저장 인쇄 메일전송
구성항목	기본정보 상세정보 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표IPC 관리번호, 국가코드, 자료구분, 상태, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 공고번호, 공고일자, 등록번호, 등록일자, 발명명칭(한글), 발명명칭(영문), 출원인(한글), 출원인(영문), 출원인코드, 대표출원인, 출원인국적, 출원인주소, 발명자, 발명자E, 발명자코드, 발명자주소, 발명자 우편번호, 발명자국적, 대표IPC, IPC코드, 요약, 미국특허분류, 대리인주소, 대리인코드, 대리인(한글), 대리인(영문), 국제공개일자, 국제공개번호, 국제출원일자, 국제출원번호, 우선권, 우선권주장일, 우선권국가, 우선권출원번호, 원출원일자, 원출원번호, 지정국, Citing Patents, Cited Patents
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