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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 | 10-2009-0088889 (2009-09-21) |
공개번호 | 10-2011-0031574 (2011-03-29) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020090088889 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2009-09-21) |
심사진행상태 | 거절결정(일반) |
법적상태 | 거절 |
반회분식 공정을 이용하여 열 전도성 페이스트용 바이모달(Bimodal) 은 나노입자를 제조하는 방법 및 그 방법에 따른 은 나노입자가 개시되어 있다. 방법은 a) 수산화나트륨 수용액, 질산은 및 미리스틱 산 수용액을 반응시켜 은 미리스테이트를 생성하는 단계; b) 상기 은 미리스테이트를 건조하는 단계; c) 상기 은 미리스테이트을 트라이에틸아민 용액에서 열분해 반응시켜 콜로이달 은을 생성하는 단계; 및 d) 상기 콜로이달 은으로부터 은 나노입자를 분리하는 단계를 포함한다.
a) 수산화나트륨 수용액, 질산은 및 미리스틱 산 수용액을 반응시켜 은 미리스테이트를 생성하는 단계;b) 상기 은 미리스테이트를 건조하는 단계;c) 상기 은 미리스테이트을 트라이에틸아민 용액에서 열분해 반응시켜 콜로이달 은을 생성하는 단계; 및d) 상기 콜로이달 은으로부터 은 나노입자를 분리하는 단계를 포함하는 은 나노입자 제조 방법.
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