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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 | 10-2009-0133800 (2009-12-30) |
공개번호 | 10-2011-0077277 (2011-07-07) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020090133800 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사진행상태 | 취하(심사미청구) |
법적상태 | 취하 |
나노 스케일 디바이스 제작을 위한 1차 노광을 위한 패턴 및 2차 노광을 위한 패턴으로 분할될 패턴 디자인 방법에 관한 것이다.본 발명의 실시예에 따른 패턴 디자인 방법은 반복되는 라인(line)/스페이스(space)로 이루어진 적어도 2개 이상의 패턴을 포함하는 원본 패턴을 제공하는 단계, 원본 패턴을 구성하는 패턴들을 확대하여 확대된 패턴들이 서로 중첩되도록 하는 단계, 확대된 패턴들 각각에 대하여 각각의 확대된 패턴과 중첩되는 확대된 패턴의 수를 계산하는 단계, 계산 결과 중첩되는 확대된 패턴의 총 수가 홀수개인 영역을 검출하
나노 스케일 디바이스 제작을 위한 1차 노광을 위한 패턴 및 2차 노광을 위한 패턴으로 분할될 패턴 디자인 방법에 있어서,반복되는 라인(line)/스페이스(space)로 이루어진 적어도 1개 이상의 패턴을 포함하는 원본 패턴을 제공하는 단계;상기 원본 패턴을 구성하는 상기 패턴들을 확대하여 상기 확대된 패턴들이 서로 중첩되도록 하는 단계;상기 확대된 패턴들 각각에 대하여 상기 각각의 확대된 패턴과 중첩되는 확대된 패턴의 수를 계산하는 단계;상기 계산 결과 중첩되는 확대된 패턴의 총 수가 홀수개인 영역을 검출하는 단계를 포함하는 패턴
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