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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 | 10-2010-0041089 (2010-04-30) | |
공개번호 | 10-2011-0121484 (2011-11-07) | |
등록번호 | 10-1240422-0000 (2013-02-28) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020100041089 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2010-04-30) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 소멸 |
본 발명은 실리콘 나노분말 제조장치 및 그 방법에 관한 것이다.본 발명에 따른 실시예는, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 실리콘 나노분말 제조장치에 있어서, 내부에 공간이 형성된 합성용기; 플라즈마용 가스를 상기 합성용기 내부로 유입하는 플라즈마가스 유입부; 상기 플라즈마용 가스를 플라즈마로 만드는 전력을 공급하는 플라즈마 안테나; 실리콘 공정가스를 상기 합성용기 내부로 유입하는 플라즈마가스 유입부; 상기 실리콘 공정가스가 상기 플라즈마에 의해 분해된 후 분해된 입자가 통과되는 다수의 구멍을 구비한 배플; 및 상기 배플을 통과한 입
실리콘 나노분말 제조장치에 있어서,내부에 공간이 형성된 합성용기;플라즈마용 가스를 상기 합성용기 내부로 유입하는 플라즈마가스 유입부;상기 플라즈마용 가스를 플라즈마로 만드는 전력을 공급하는 플라즈마 안테나;실리콘 공정가스를 상기 합성용기 내부로 유입하는 공정가스 유입부;상기 실리콘 공정가스가 상기 플라즈마에 의해 분해된 후 분해된 입자가 통과되는 다수의 구멍을 구비한 배플; 및상기 배플을 통과한 입자가 서로 결합하여 결정질 입자가 형성되는 서브스트레이트를 고정하는 스테이지를 포함하는 것을 특징으로 하는 실리콘 나노분말 제조장치.
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