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반도체 공정용 칠러 장치의 냉매회수 시스템 및 방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC9판)
  • H01L-021/02
  • H01L-023/34
출원번호 10-2010-0044972 (2010-05-13)
공개번호 10-2011-0125443 (2011-11-21)
등록번호 10-1109731-0000 (2012-01-18)
DOI http://doi.org/10.8080/1020100044972
발명자 / 주소
  • 남정욱 / 경기도 오산시 궐동 ***-**번지 ***호
  • 안상영 / 경기 오산시 오산동 ***-** ***호
출원인 / 주소
  • 유니셈(주) / 경기도 화성시 동탄면 장지남길 **-*
대리인 / 주소
  • 정현영
심사청구여부 있음 (2010-05-13)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 등록

초록 ▼

칠러 장치와 공정 챔버를 냉매가 순환하는 냉매 경로를 포함하고, 상기 냉매 경로 상에는 압축기로부터 시작하여 응축기, 수액기 및 팽창밸브가 순차적으로 설치되고, 상기 압축기의 전단에는 제 1 압력센서가 설치되며, 상기 수액기와 팽창밸브 사이에 제 1 개폐밸브가 설치되고, 상기 공정 챔버의 전단과 후단에 각각 제 2 및 제 3 개폐밸브가 설치되고, 상기 제 2 개폐밸브와 상기 공정 챔버 사이에서 분기하는 분기 경로에는 제 2 압력센서와 제 4 개폐밸브가 설치되고, 상기 제 4 개폐밸브는 진공 펌프와 연결되며, 상기 제 1 및 제 2

대표청구항 ▼

칠러 장치와 공정 챔버를 냉매가 순환하는 냉매 경로 상에 압축기로부터 시작하여 응축기, 수액기 및 전자식 팽창밸브가 순차적으로 설치되어, 상기 팽창밸브로부터 출력된 냉매가 상기 공정 챔버에 공급되고,상기 압축기의 전단에는 제 1 압력센서가 설치되고,상기 수액기와 팽창밸브 사이에 제 1 개폐밸브가 설치되고, 상기 공정 챔버의 전단과 후단에 각각 제 2 및 제 3 개폐밸브가 설치되고,상기 제 2 개폐밸브와 상기 공정 챔버 사이에서 분기하는 분기 경로에는 제 2 압력센서와 제 4 개폐밸브가 설치되고, 상기 제 4 개폐밸브는 진공 펌프와

이 특허에 인용된 특허 (2)

  1. [한국] 전자팽창밸브 제어식 냉동시스템 | 방채현
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  2. [한국] 냉매회 수장치 | 심재봉
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이 특허를 인용한 특허 (5)

  1. [한국] 가스를 매개체로 하는 반도체 제조공정설비용 온도 제어시스템의 냉매 충전시스템 및 이를 이용한 냉매 충전방법 | 우범제, 한명석, 윤석문
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  2. [한국] 순환 냉각 가열 장치 | 시가 카즈야
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  3. [한국] 가스를 매개체로 하는 반도체 제조공정설비용 온도 제어시스템의 냉매 누출 점검시스템 및 이를 이용한 냉매 누출 점검방법 | 우범제, 한명석, 윤석문
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  4. [한국] 반도체 공정용 칠러 | 안상영, 유욱진, 남정욱, 이병찬, 김민철
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  5. [한국] 반도체 공정용 칠러의 온도제어 방법 | 안상영, 유욱진, 남정욱, 이병찬, 서석원
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