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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2010-7011231 (2010-05-24) | |
공개번호 | 10-2010-0100820 (2010-09-15) | |
등록번호 | 10-1500790-0000 (2015-03-03) | |
우선권정보 | 일본(JP) JP-P-2007-279374 (2007-10-26) | |
국제출원번호 | PCT/JP2008/069406 (2008-10-27) | |
국제공개번호 | WO 2009/054522 (2009-04-30) | |
번역문제출일자 | 2010-05-24 | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020107011231 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2013-06-03) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은, 종래보다 저온에서, 또는 가열에 의해 신속하고 치밀한 실리카질 막을 형성시킬 수 있는 폴리실라잔 화합물 함유 조성물을 제공하는 것이다. 이와 같은 실리카질 물질의 형성 방법은, 폴리실라잔 화합물과 특정 아민 화합물과 용매를 함유하여 이루어지는 폴리실라잔 화합물 함유 조성물과, 그것을 기판 상에 도포하고, 실리카질 물질로 전화시키는 것을 포함한다. 특정 아민 화합물은, 2 개의 아민기의 간격이, C-C 결합 5 개에 상당하는 거리 이상인 것이 바람직하고, 아민기는 탄화수소기에 의해 치환되어 있는 것이 바람직하다.
폴리실라잔 화합물과,하기 일반식 (A) [화학식 1] (식 중, RA 는 각각 독립적으로 수소 또는 C1 ∼ C3 의 탄화수소기를 나타내고, 여기서, 1 개의 질소에 결합하는 2 개의 RA 는 동시에 수소가 아니고, L1 및 L2 는 각각 독립적으로, -CH2-, -NRA1- (여기서, RA1 은 수소 또는 C1 ∼ C4 의 탄화수소기이며), 또는 -O- 이고, p1 및 p3 은 각각 독립적으로 0 ∼ 4 의 정수이며, p2 는 1 ∼ 4 의 정수이다), 또는 하기 일반식 (B) [화학식 2] (식 중, RB 는 각각 독립적으로 수
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