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| 국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
|---|---|
| 국제특허분류(IPC9판) |
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| 출원번호 | 10-2010-7022237 (2010-10-05) |
| 공개번호 | 10-2010-0130210 (2010-12-10) |
| 국제출원번호 | PCT/US2009/035000 (2009-02-24) |
| 국제공개번호 | WO2009114262 (2009-09-17) |
| 번역문제출일자 | 2010-10-05 |
| DOI | http://doi.org/10.8080/1020107022237 |
| 발명자 / 주소 |
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| 출원인 / 주소 |
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| 대리인 / 주소 |
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| 심사진행상태 | 취하(심사미청구) |
| 법적상태 | 취하 |
플라즈마 균일성을 제어하기 위한 방법 및 장치가 개시된다.기판을 에칭하는 동안, 비균일 플라즈마는 기판의 불균일한 에칭을 유도할 수 있다.임피던스 회로들은 불균일한 플라즈마를 완화시켜 보다 균일한 에칭을 허용한다.임피던스 회로들은 챔버 벽과 접지, 샤워헤드와 접지, 및 캐소드 캔과 접지 사이에 배치될 수 있다.임피던스 회로들은 하나 이상의 인덕터 및 커패시터를 포함할 수 있다.인덕터의 인덕턴스 및 커패시터의 커패시턴스는 균일한 플라즈마를 보장하기 위해 미리결정될 수 있다.부가적으로, 특정 프로세스의 요구조건들을 충족시키기 위해 프로
플라즈마 프로세싱 장치로서,챔버 바디;상기 챔버 바디내에 배치된 기판 지지체;상기 기판 지지체와 마주하게 상기 챔버 바디내에 배치되는 샤워헤드; 상기 기판 지지체와 연결되는 전원장치(power supply); 및커패시터, 인덕터, 및 이들의 조합물들로 이루어진 그룹에서 선택된 적어도 하나의 아이템 ― 상기 적어도 하나의 아이템은 상기 챔버 바디, 상기 샤워헤드, 및 상기 기판 지지체 중 적어도 2개와 연결됨―을 포함하는, 플라즈마 프로세싱 장치.
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