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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2010-7023015 (2010-10-14) | |
공개번호 | 10-2010-0126510 (2010-12-01) | |
등록번호 | 10-1546278-0000 (2015-08-17) | |
우선권정보 | 미국(US) 12/052,431 (2008-03-20) | |
국제출원번호 | PCT/US2009/031966 (2009-01-26) | |
국제공개번호 | WO 2009/117173 (2009-09-24) | |
번역문제출일자 | 2010-10-14 | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020107023015 | |
발명자 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2013-10-25) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
플라스마 챔버에서의 플라스마 방전의 강도 및 분포를 제어하기 위한 장치 및 방법이 제공된다.일 실시예에서는, 형태화된 전극이 기판 지지부 내에 매설되어 챔버 내부에서 반경 방향 및 축 방향 성분을 가지는 전기장을 제공한다.다른 실시예에서는, 샤워헤드 조립체의 면판 전극이 아이솔레이터에 의해 구역들로 분할되어, 상이한 구역에 상이한 전압이 인가될 수 있게 한다.추가로, 하나 또는 복수의 전극이 챔버 측벽 내에 매설될 수 있다.
기판을 처리하기 위한 장치로서,측벽을 포함하는 챔버 본체를 포함하는 챔버; 상기 챔버 내에 배치된 기판 지지부;상기 기판 지지부에 결합되는 하나 또는 복수의 전극;상기 기판 지지부와 마주하는 면판을 가지는 샤워헤드 조립체 - 상기 기판 지지부 및 상기 면판은 협동하여(cooperatively) 프로세싱 용적을 한정함 -; 상기 측벽 내에 형성되며 배출 포트에 의해 상기 프로세싱 용적에 결합되는 펌핑 채널; 및상기 측벽 내에 매설되는 하나 또는 복수의 접지 부재;를 포함하고,상기 하나 또는 복수의 전극은 프로세싱 용적 내부에 축 방향
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