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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 | 10-2011-0026854 (2011-03-25) |
공개번호 | 10-2012-0108673 (2012-10-05) |
등록번호 | 10-1207384-0000 (2012-11-27) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020110026854 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2011-03-25) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 소멸 |
본 발명의 마이크로 나노버블을 이용한 반도체 세정방법은; 세정액을 사용하지 않고 탈이온수(DIW, deionized water)에 오존(O3)과 질소(N2)를 믹싱펌프(Mixing Pump)에 넣고 믹싱(Mixing)하여 기능수를 얻는 기능수생성과정과; 상기 기능수를 마이크로 나노버블 제너레이터를 통과시켜 5nm이하의 마이크로 나노버블을 만드는 나노버블 생성과정과; 상기 마이크로 나노버블을 반도체 기판표면의 아래위에서 분사를 하거나 자연스럽게 흐르도록 뿌려주어 반도체 기판표면의 유기물을 세정하여서 이루어지고,또한, 본 발명의 마이크
세정액을 사용하지 않고 탈이온수(DIW, deionized water)에 오존(O3)과 질소(N2)를 믹싱(Mixing)한 기능수를 얻는 기능수생성과정과; 상기 기능수인 탈이온수(DIW),오존(O3),질소(N2)를 믹싱펌프(Mixing Pump)에 넣고 동작시켜 0.1mm ~ 5mm size의 버블을 얻고 이것을 마이크로 나노버블 제너레이터를 통과시켜서 5nm이하의 마이크로 나노버블을 만드는 나노버블 생성과정과; 상기 마이크로 나노버블을 반도체 기판표면의 아래위에서 분사를 하거나 자연스럽게 흐르도록 뿌려주어 반도체 기판표면의 유기물
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