초록 ▼

본 발명의 마이크로 나노버블을 이용한 반도체 세정방법은; 세정액을 사용하지 않고 탈이온수(DIW, deionized water)에 오존(O3)과 질소(N2)를 믹싱펌프(Mixing Pump)에 넣고 믹싱(Mixing)하여 기능수를 얻는 기능수생성과정과; 상기 기능수를 마이크로 나노버블 제너레이터를 통과시켜 5nm이하의 마이크로 나노버블을 만드는 나노버블 생성과정과; 상기 마이크로 나노버블을 반도체 기판표면의 아래위에서 분사를 하거나 자연스럽게 흐르도록 뿌려주어 반도체 기판표면의 유기물을 세정하여서 이루어지고,또한, 본 발명의 마이크

본 발명의 마이크로 나노버블을 이용한 반도체 세정방법은; 세정액을 사용하지 않고 탈이온수(DIW, deionized water)에 오존(O3)과 질소(N2)를 믹싱펌프(Mixing Pump)에 넣고 믹싱(Mixing)하여 기능수를 얻는 기능수생성과정과; 상기 기능수를 마이크로 나노버블 제너레이터를 통과시켜 5nm이하의 마이크로 나노버블을 만드는 나노버블 생성과정과; 상기 마이크로 나노버블을 반도체 기판표면의 아래위에서 분사를 하거나 자연스럽게 흐르도록 뿌려주어 반도체 기판표면의 유기물을 세정하여서 이루어지고,또한, 본 발명의 마이크로 나노버블을 이용한 반도체 세정장치는; 세정액을 사용하지 않고 탈이온수(DIW, deionized water)에 오존과 질소를 믹싱펌프로 믹싱(mixing)한 기능수를 나노버블 제너레이터를 통과시켜 5nm이하의 마이크로 나노버블을 만들고 이를 분사펌프로 분사하는 마이크로 나노버블 발생기와; 일측에 유기물이 부상하여 물흐름에 따라 흘러 배수처리되는 유기물배수로를 갖고 유기물배수로와 연결되어 유분분리로 물의 재생이 이루어져 필터를 거쳐 믹싱펌프로 물을 공급하는 오버플로우조를 가지며 오존(O3) 및 질소(N2)를 배기할 수 있는 포트를 갖고 상기 마이크로 나노버블 발생기의 분사펌프로 나노버블이 분사되어 버블분사세정이 이루어지는 제1차세정조와; 일측에 유기물이 부상하여 물흐름에 따라 흘러 배수처리되는 유기물배수로를 갖고 유기물배수로와 연결되어 유분분리로 물의 재생이 이루어져 필터를 거쳐 믹싱펌프로 물을 공급하는 오버플로우조를 가지며 오존(O3) 및 질소(N2)를 배기할 수 있는 포트를 갖고 상기 마이크로 나노버블 발생기의 분사펌프로 나노버블이 분사됨과 동시에 청정건조공기(CDA; Clean Dry Air)를 분사하여 2류체분사세정이 이루어지는 제2차세정조와; 상기 제1차세정조와 상기 제2차세정조 사이에 위치되어 다음 세정구간으로 세정된 물이 넘어가지 않도록 청정건조공기(CDA; Clean Dry Air)로 커튼벽을 이루는 제1차에어커튼과; 다음 세정구간으로 세정된 물이 넘어가지 않도록 청정건조공기(CDA; Clean Dry Air)로 커튼벽을 이루는 제2차에어커튼과; 탈이온수(DIW)를 분사하여 반도체 기판을 세척하는 린스조와; 다음 세정구간으로 세정된 물이 넘어가지 않도록 청정건조공기(CDA; Clean Dry Air)로 커튼벽을 이루는 제3차에어커튼과; 청정건조공기(CDA; Clean Dry Air)로 반도체 기판을 건조시키는 건조조와; 상기 제1차세정조와, 제2차세정조 및 린스조에는, 기판의 진입을 감지할 수 있는 물체감지 근접센서가 각각 구비되고, 각각의 세정구간마다 물체감지 근접센서의 신호를 받아 반도체 기판의 이송속도를 개별로 동작시킬 수 있도록 콘베이어 속도 조절용 콘베이어모터를 구비하여서 이루어진다.이러한 본 발명은 세정단계에서 세정액을 사용하지 않고 탈이온수(DIW, Deionized water)에 오존과 질소가 첨가된 기능수를 마이크로 나노버블(5um이하)로 만들어 피세척물에 직접 분사함으로써 피세척물에서 흘러내리는 마이크로 나노버블이 유분을 도포하여 부상하고 파티클 및 유분이 포함된 폐세정액은 가라앉거나 일측으로 배수됨에 따라 피세정물에 오염물질이 부착되지 않아 세정효과가 뛰어나고, 각 근접센서와 컨베어모터의 속도설정에 따라 피세척물의 오염정도에 따른 세정시간을 손쉽게 조절할 수 있으며, 각 세정구간 사이에는 에어커텐이 형성되어 세정된 오염물질이나 물이 다음 세정구간으로 유입되는 것을 방지하고, 피세척물의 크기와 관계없이 콘베이어의 폭 조절로 손쉽게 피세척물의 세정이 이루어지는 효과가 있다.

대표청구항 ▼

세정액을 사용하지 않고 탈이온수(DIW, deionized water)에 오존(O3)과 질소(N2)를 믹싱(Mixing)한 기능수를 얻는 기능수생성과정과; 상기 기능수인 탈이온수(DIW),오존(O3),질소(N2)를 믹싱펌프(Mixing Pump)에 넣고 동작시켜 0.1mm ~ 5mm size의 버블을 얻고 이것을 마이크로 나노버블 제너레이터를 통과시켜서 5nm이하의 마이크로 나노버블을 만드는 나노버블 생성과정과; 상기 마이크로 나노버블을 반도체 기판표면의 아래위에서 분사를 하거나 자연스럽게 흐르도록 뿌려주어 반도체 기판표면의 유기물

세정액을 사용하지 않고 탈이온수(DIW, deionized water)에 오존(O3)과 질소(N2)를 믹싱(Mixing)한 기능수를 얻는 기능수생성과정과; 상기 기능수인 탈이온수(DIW),오존(O3),질소(N2)를 믹싱펌프(Mixing Pump)에 넣고 동작시켜 0.1mm ~ 5mm size의 버블을 얻고 이것을 마이크로 나노버블 제너레이터를 통과시켜서 5nm이하의 마이크로 나노버블을 만드는 나노버블 생성과정과; 상기 마이크로 나노버블을 반도체 기판표면의 아래위에서 분사를 하거나 자연스럽게 흐르도록 뿌려주어 반도체 기판표면의 유기물을 세정하는 마이크로 나노버블을 이용한 반도체 세정방법에 있어서;상기 마이크로 나노버블에 의한 반도체 기판표면의 세정이 세정조 내부에서 이루어질 경우, 세정 후, 파티클(particle)은 물속 아래쪽으로 모이고, 유기물들은 물의 위쪽으로 부상하여 흐름에 의해 일측 하부로 흐르게 배수처리함으로써 세정조 위쪽에서 담겨지고 위쪽으로 빼내지는 반도체 기판에 유기물의 재부착을 방지하는 것을 특징으로 하는 마이크로 나노버블을 이용한 반도체 세정방법.