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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 | 10-2011-0030231 (2011-04-01) | |
공개번호 | 10-2013-0006741 (2013-01-18) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020110030231 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2011-04-01) | |
심사진행상태 | 거절결정(일반) | |
법적상태 | 거절 |
본 발명은 반도체 공정 중 포토리소그래피 공정에서 노광원판의 오염을 방지하기 위해 사용되는 펠리클에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 펠리클 프레임에 관한 것이다. 본 발명에 따르면, 한 쌍의 장변과 한 쌍의 단변을 구비한 직사각형의 펠리클 프레임에 있어서, 상기 단변은 양쪽 단부로부터 15㎜ 이내에 각각 지그 구멍이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 펠리클 프레임이 제공된다. 본 발명에 따른 펠리클 프레임은 단변에 지그 구멍이 형성되어 있으므로, 표면에 피막을 형성하는 과정에서 펠리클 프레임의 변형이 작다. 또한, 펠리클의 수축에
한 쌍의 장변과 한 쌍의 단변을 구비한 직사각형의 펠리클 프레임에 있어서, 상기 단변은 양쪽 단부로부터 15㎜ 이내에 각각 지그 구멍이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 펠리클 프레임.
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