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초극자외선용 펠리클 및 그 제조방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC9판)
  • G03F-001/62
  • G03F-001/22
출원번호 10-2011-0141935 (2011-12-26)
공개번호 10-2013-0074066 (2013-07-04)
등록번호 10-1303795-0000 (2013-08-29)
DOI http://doi.org/10.8080/1020110141935
발명자 / 주소
  • 박성호 / 경기도 오산시 경기대로 **, ***동 ***호 (갈곶동, 우림아파트)
  • 오혜근 / 서울특별시 영등포구 당산동*가 **-* 진로아파트 ***-****
  • 김은진 / 서울특별시 강서구 강서로 ***, ***동 ***호 (내발산동, 우장산힐스테이트)
  • 유장동 / 경기도 수원시 장안구 월드컵로 ***-** (연무동)
  • 장명식 / 서울특별시 송파구 올림픽로*길 **, 아시아선수촌아파트 *동 ****호 (잠실동)
출원인 / 주소
  • 주식회사 에프에스티 / 경기도 화성시 동탄면 영천리 ***-*
대리인 / 주소
  • 특허법인다인
심사청구여부 있음 (2011-12-26)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 등록

초록

본 발명은 반도체 디바이스 또는 액정 디스플레이 등을 제조할 때 방진막으로 사용되는 리소그래피용 펠리클에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는, 초극자외선용 펠리클에 관한 것이다. 본 발명에 따르면, 자외선이 투과하는 펠리클 막과 상기 펠리클 막을 지지하는 펠리클 프레임을 포함하는 반도체 리소그래피용 펠리클에 있어서, 상기 펠리클 막은 두께가 100㎚이하인, 지르코늄(zirconium, Zr) 또는 몰리브덴(molybdenum, Mo) 금속 박막인 것을 특징으로 하는 초극자외선용 펠리클이 제공된다. 본 발명에 따른 초극자외선용 펠리클은

대표청구항

자외선이 투과하는 펠리클 막과 상기 펠리클 막을 지지하는 펠리클 프레임을 포함하는 반도체 리소그래피용 펠리클에 있어서,상기 펠리클 막은 두께가 100㎚ 이하인, 지르코늄(zirconium, Zr) 또는 몰리브덴(molybdenum, Mo) 금속 단일 박막이며, 상기 펠리클 프레임은 세라믹인 것을 특징으로 하는 초극자외선용 펠리클.

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (4)

  1. [한국] 펠리클 및 펠리클의 제조 방법 | 구보타 요시히로, 아키야마 쇼지, 신도 도시히코
  2. [한국] 리소그래피용 펠리클 | 하마다 유이찌
  3. [한국] 광학 멤브레인 요소 | 뮐러 울리히, 라트 마틴
  4. [미국] Pellicle, lithographic apparatus and device manufacturing method | Banine,Vadim Yevgenyevich, Bleeker,Arno Jan

이 특허를 인용한 특허 (5)

  1. [한국] 유기물 희생층 기판을 이용한 초극자외선용 펠리클의 제조방법 | 조상진, 김명전, 박돈원, 김지강
  2. [한국] 유기물 희생층 기판을 이용한 초극자외선용 펠리클의 제조방법 | 조상진, 김명전, 박돈원, 김지강, 임재동, 서경원
  3. [한국] 펠리클, 그 제조 방법 및 노광 방법 | 고무라 가즈오, 다네이치 다이키, 오노 요스케, 이시카와 히사코, 비야지마 츠네아키, 오쿠보 아츠시, 사토 야스유키, 히로타 도시아키
  4. [한국] 펠리클 제조방법 | 조상진, 임재동, 서경원, 김명전, 박돈원, 김지강, 김현태
  5. [한국] 극자외선 리소그래피용 펠리클 구조체 | 오혜근, 이성규, 박진구, 안진호, 안일신, 김국진, 고기호, 김인선, 박성모, 이정환
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