초록 ▼

본 발명은 반도체 공정 중 포토리소그래피 공정에서 노광원판의 오염을 방지하기 위해 사용되는 펠리클에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 펠리클 프레임에 관한 것이다. 본 발명에 따르면, 한 쌍의 장변과 한 쌍의 단변을 구비한 직사각형의 펠리클 프레임에 있어서, 상기 단변은 양쪽 단부로부터 15㎜ 이내에 각각 지그 구멍이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 펠리클 프레임이 제공된다. 본 발명에 따른 펠리클 프레임은 단변에 지그 구멍이 형성되어 있으므로, 표면에 피막을 형성하는 과정에서 펠리클 프레임의 변형이 작다. 또한, 펠리클의 수축에

본 발명은 반도체 공정 중 포토리소그래피 공정에서 노광원판의 오염을 방지하기 위해 사용되는 펠리클에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 펠리클 프레임에 관한 것이다. 본 발명에 따르면, 한 쌍의 장변과 한 쌍의 단변을 구비한 직사각형의 펠리클 프레임에 있어서, 상기 단변은 양쪽 단부로부터 15㎜ 이내에 각각 지그 구멍이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 펠리클 프레임이 제공된다. 본 발명에 따른 펠리클 프레임은 단변에 지그 구멍이 형성되어 있으므로, 표면에 피막을 형성하는 과정에서 펠리클 프레임의 변형이 작다. 또한, 펠리클의 수축에 의한 변형이나 핸들링 과정에서 가해지는 압력에 의한 변형도 작다는 장점이 있다.

대표청구항

한 쌍의 장변과 한 쌍의 단변을 구비한 직사각형의 펠리클 프레임에 있어서, 상기 단변은 양쪽 단부로부터 15㎜ 이내에 각각 지그 구멍이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 펠리클 프레임.

한 쌍의 장변과 한 쌍의 단변을 구비한 직사각형의 펠리클 프레임에 있어서, 상기 단변은 양쪽 단부로부터 15㎜ 이내에 각각 지그 구멍이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 펠리클 프레임.