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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2011-0069368 (2011-07-13) | |
공개번호 | 10-2013-0008786 (2013-01-23) | |
등록번호 | 10-1395860-0000 (2014-05-09) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020110069368 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2011-07-13) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 삼염화인(PCl3)과 염소(Cl2), 불화수소(HF)를 끓는점 이상으로 가온하여 가스 상태로 2회 연속 반응시킴으로써 불순물이 많이 포함된 저가의 원료를 사용하면서도 고순도, 고수율의 육불화인산리튬(LiPF6) 제조하는 방법 및 상기 제조방법을 이용하여 제조되는 육불화인산리튬에 관한 것이다.
(a) 삼염화인, 염소 및 불화수소를 1차 반응기에서 기상 반응시킨 반응 및 미반응 가스를 배관의 내경이 좁아지는 부분을 지나면서 가스의 혼합이 이뤄지게 하여 2차 반응기로 이송한 후 추가로 기상 반응시켜 오불화인을 제조하는 단계;(b) 불화리튬을 불화수소에 용해시켜 불화리튬용액을 제조하는 단계; 및 (c) 상기 단계(a)의 오불화인과 상기 단계(b)의 불화리튬용액을 반응시키는 단계; 를 포함하는 육불화인산리튬의 제조방법.
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