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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 | 10-2011-0114348 (2011-11-04) | |
공개번호 | 10-2013-0049362 (2013-05-14) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020110114348 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사진행상태 | 취하(심사미청구) | |
법적상태 | 취하 |
본 발명은 적층 세라믹 커패시터 제조 방법에 관한 것으로, 내부전극이 인쇄된 세라믹 그린시트를 적층하여 세라믹 적층체를 형성하는 단계; 상기 세라믹 적층체에 열압착을 가하는 단계; 상기 세라믹 적층체를 절단하는 단계; 상기 세라믹 적층체에 슬러리를 침투시키는 단계; 및 상기 세라믹 적층체에 침투된 슬러리를 건조하는 단계;를 포함할 수 있다. 본 발명에 따르면, 적층 세라믹 커패시터 제조 공정시 발생하는 크랙(crack)이 제거되어 신뢰성이 우수한 적층 세라믹 커패시터를 제작할 수 있다.
내부전극이 인쇄된 세라믹 그린시트를 적층하여 세라믹 적층체를 형성하는 단계;상기 세라믹 적층체를 절단하는 단계;상기 세라믹 적층체에 세라믹 파우더가 포함된 슬러리를 도포하는 단계; 및상기 세라믹 적층체에 도포된 슬러리를 건조하는 단계;를포함하는 적층 세라믹 커패시터 제조 방법.
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