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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 | 10-2011-0147964 (2011-12-30) | |
공개번호 | 10-2013-0078829 (2013-07-10) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020110147964 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사진행상태 | 취하(심사미청구) | |
법적상태 | 취하 |
본 발명은 히알루론산을 10%(w/v) 내지 30%(w/v) 농도로 에탄올에 분산시켜 히알루론산 분산액을 제조하는 단계; 상기 히알루론산 분산액에 산을 첨가하여, pH를 pH 1 내지 pH 2로 조절하는 단계; 및 상기 pH가 조절된 히알루론산 분산액을 60℃ 내지 90℃에서 2시간 내지 144시간 동안 반응시키는 단계를 포함하는 저분자 히알루론산의 제조방법에 관한 것이다.본 발명의 제조방법은 히알루론산의 절대평균분자량을 고르게 효과적으로 낮출 수 있고, 히알루론산의 변색 등 품질 저하가 되지 않으며, 에탄올과 산 조건하에서 반응을
히알루론산을 10%(w/v) 내지 30%(w/v) 농도로 에탄올에 분산시켜 히알루론산 분산액을 제조하는 단계;상기 히알루론산 분산액에 산을 첨가하여, pH를 pH 1 내지 pH 2로 조절하는 단계; 및상기 pH가 조절된 히알루론산 분산액을 60℃ 내지 90℃에서 2시간 내지 144시간 동안 반응시키는 단계를 포함하는 저분자 히알루론산의 제조방법.
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