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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 |
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 | 10-2011-7022172 (2011-09-22) |
공개번호 | 10-2011-0118731 (2011-10-31) |
국제출원번호 | PCT/JP2010/054102 (2010-03-11) |
국제공개번호 | WO2010110081 (2010-09-30) |
번역문제출일자 | 2011-09-22 |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020117022172 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2011-09-23) |
심사진행상태 | 거절결정(일반) |
법적상태 | 거절 |
일방의 면에 대략 반구면 형상으로 돌출된 마이크로렌즈를 복수 가지는 마이크로렌즈 어레이의 제조 방법으로서, 마이크로렌즈의 재료층이 되는 유기막층 상에 마이크로렌즈의 형상을 형성하기 위한 레지스트층을 형성하는 레지스트 형성 공정과, 형성한 레지스트층 및 유기막층을, 수소를 포함하는 분자 및 불소를 포함하는 분자를 혼합시킨 혼합 가스를 이용하여 에칭하는 에칭 공정을 포함한다.
일방의 면에 대략 반구면(半球面) 형상으로 돌출된 마이크로렌즈를 복수 가지는 마이크로렌즈 어레이의 제조 방법으로서, 상기 마이크로렌즈의 재료층이 되는 유기막층 상에 상기 마이크로렌즈의 형상을 형성하기 위한 레지스트층을 형성하는 레지스트 형성 공정과, 형성한 상기 레지스트층 및 상기 유기막층을, 수소를 포함하는 분자 및 불소를 포함하는 분자를 혼합시킨 혼합 가스를 이용하여 에칭하는 에칭 공정을 포함하는 마이크로렌즈 어레이의 제조 방법.
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