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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2011-7025139 (2011-10-24) | |
공개번호 | 10-2011-0137817 (2011-12-23) | |
등록번호 | 10-1785440-0000 (2017-09-29) | |
우선권정보 | 미국(US) 61/162,953 (2009-03-24) | |
국제출원번호 | PCT/CA2010/000443 (2010-03-24) | |
국제공개번호 | WO 2010/108272 (2010-09-30) | |
번역문제출일자 | 2011-10-24 | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020117025139 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2015-03-11) | |
심사진행상태 | 등록결정(재심사후) | |
법적상태 | 등록 |
나노분말의 제조 및 재료 가공을 위한 방법 및 장치가 본 명세서에 기재된다.플라즈마를 생성하는 플라즈마 토치를 포함하는 토치 바디; 플라즈마 방전을 받기 위하여 토치 바디와 유체 연락하고, 켄치부와 더 유체 연락하는 반응기 부; 및 반응기 부와 열적 연락하는 적어도 하나의 발열체를 포함하는 플라즈마 반응기가 본 명세서에 기재되며, 여기에서 적어도 하나의 발열체는 반응기 부 내에서 온도의 선택적 조절을 가능하게 한다.
플라즈마를 생성하는 플라즈마 토치를 포함하는 토치 바디;상기 토치 바디로부터 플라즈마 방전을 받기 위하여 상기 토치 바디의 하류에 위치하는 반응기 부;상기 반응기 부의 하류에 위치하는 켄치부: 및 상기 반응기 부와 열교환하는 적어도 하나의 발열체를 포함하고,상기 켄치부는 켄치 챔버를 정의하는 내벽을 포함하며, 상기 내벽은 톱니 형태(serrated configuration)를 가지며,상기 켄치 챔버는, 상기 반응기 부에 인접한 제1 직경을 갖는 상류 단부로부터 상기 제1 직경보다 큰 제2 직경을 갖는 반대편의 하류 단부로 넓어지며,
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