초록 ▼

본 발명은 기판상에 박막 필름 물질을 증착하기 위한 장치와 재생 공정에 관한 것이다.장치는 챔버(1)와, 챔버 내부에 배치된 극저온 패널(10)과, 기판을 지지할 수 있는 샘플 홀더(6)와, 챔버(1) 내부로 가스 전구체를 분사할 수 있는 가스 인젝터(9)와, 상기 진공 챔버(1)에 연결되고, 상기 극저온 패널(10)에 의해 방출된 가스 전구체의 일부를 포집할 수 있으며, 고정된 펌핑 용량(S1)을 갖는 제1 트랩 수단(11)을 포함한다. 본 발명에 따르면, 기판상에 박막 필름 물질을 증착하기 위한 장치는, 가스 전구체 분압의 함수

본 발명은 기판상에 박막 필름 물질을 증착하기 위한 장치와 재생 공정에 관한 것이다.장치는 챔버(1)와, 챔버 내부에 배치된 극저온 패널(10)과, 기판을 지지할 수 있는 샘플 홀더(6)와, 챔버(1) 내부로 가스 전구체를 분사할 수 있는 가스 인젝터(9)와, 상기 진공 챔버(1)에 연결되고, 상기 극저온 패널(10)에 의해 방출된 가스 전구체의 일부를 포집할 수 있으며, 고정된 펌핑 용량(S1)을 갖는 제1 트랩 수단(11)을 포함한다. 본 발명에 따르면, 기판상에 박막 필름 물질을 증착하기 위한 장치는, 가스 전구체 분압의 함수에 따라 조절될 수 있는 가변 펌핑 용량(S2)을 갖는 제2 트랩 수단을 포함하고, 상기 제1 및 제2 트랩 수단은 진공 챔버(1) 내의 가스 전구체 분압을 지정 압력(PL) 이하로 유지하기에 충분한 전체 펌핑 용량(S=S1+S2)을 제공한다.

대표청구항 ▼

기판상에 박막 필름 물질을 증착하기 위한 장치로서, 진공 챔버(1)와,상기 진공 챔버(1)의 내부에 배치되고, 상기 기판을 지지할 수 있는 샘플 홀더(6)와, 상기 진공 챔버(1) 안으로 가스 전구체를 분사할 수 있고, 상기 가스 전구체의 일부가 기판의 표면에서 반응할 수 있도록 하는 가스 인젝터(9)와, 진공 챔버(1) 내부에 위치되고, 기판의 표면에서 반응하지 않은 상기 가스 전구체의 일부를 흡착할 수 있으며, 상기 흡착된 가스 전구체를 방출할 수 있는 적어도 하나의 극저온 패널(10)과,상기 진공 챔버(1)에 연결되고, 상기

기판상에 박막 필름 물질을 증착하기 위한 장치로서, 진공 챔버(1)와,상기 진공 챔버(1)의 내부에 배치되고, 상기 기판을 지지할 수 있는 샘플 홀더(6)와, 상기 진공 챔버(1) 안으로 가스 전구체를 분사할 수 있고, 상기 가스 전구체의 일부가 기판의 표면에서 반응할 수 있도록 하는 가스 인젝터(9)와, 진공 챔버(1) 내부에 위치되고, 기판의 표면에서 반응하지 않은 상기 가스 전구체의 일부를 흡착할 수 있으며, 상기 흡착된 가스 전구체를 방출할 수 있는 적어도 하나의 극저온 패널(10)과,상기 진공 챔버(1)에 연결되고, 상기 극저온 패널(10)에 의해 방출된 상기 가스 전구체의 일부를 포집할 수 있으며, 고정된 펌핑 용량(S1)을 갖는 제1 트랩 수단(11)을 포함하고,- 상기 극저온 패널(10)에 의해 방출된 상기 가스 전구체의 다른 일부를 포집할 수 있고, 가스 전구체 분압의 함수에 따라 조절될 수 있는 가변 펌핑 용량(S2)을 갖는 제2 트랩 수단(18)을 포함하며, - 상기 제1 및 제2 트랩 수단은 진공 챔버(1) 내의 가스 전구체 분압을 지정 압력(PL) 이하로 유지하기에 충분한 전체 펌핑 용량(S=S1+S2)을 제공하는 것을 특징으로 하는 기판상에 박막 필름 물질을 증착하기 위한 장치.