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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2012-0004859 (2012-01-16) | |
공개번호 | 10-2013-0084099 (2013-07-24) | |
등록번호 | 10-1395576-0000 (2014-05-09) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020120004859 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2012-01-16) | |
심사진행상태 | 등록결정(재심사후) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 비접촉 웨이퍼 가공방법으로써, 웨이퍼와 직접 접촉하지 않고 각 작업단계로 이동시켜 웨이퍼를 가공할 수 있는 비접촉 웨이퍼 가공방법에 관한 것이다.본 발명의 비접촉 웨이퍼 가공방법은, 로봇암이 카세트스테이션에 수납된 웨이퍼의 하부에 위치하여 상기 웨이퍼를 상방향으로 부양시키는 제1부양단계; 상기 로봇암이 상기 웨이퍼를 웨이퍼 처리스테이션으로 이송하여 배치시키는 제1이송단계; 상기 웨이퍼 처리스테이션에서 웨이퍼의 일면을 코팅하는 제1처리단계; 일면이 코팅된 웨이퍼를 상기 로봇암이 이송하여 상기 카세트스테이션에 수납하는 제2이
로봇암이 카세트스테이션에 수납된 웨이퍼의 하부에 위치하여 상기 웨이퍼를 상방향으로 부양시키는 제1부양단계;상기 로봇암이 상방향으로 부양된 상기 웨이퍼를 비접촉 상태로 이송하여 웨이퍼 처리스테이션에 배치시키는 제1이송단계;상기 웨이퍼 처리스테이션으로 이송된 웨이퍼의 중심과 방향을 정렬하는 웨이퍼 정렬단계와, 상기 웨이퍼를 냉각시키는 냉각단계와, 상기 웨이퍼에 코팅액을 도포하는 코팅처리단계와, 상기 웨이퍼를 가열하는 가열단계의 순서로 이루어져 상기 웨이퍼의 일면을 코팅하는 제1처리단계;상기 로봇암이 일면이 코팅된 웨이퍼를 상방향으로 부
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