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연합인증

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온도 측정 장치, 온도 교정 장치 및 온도 교정 방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/공개특허
국제특허분류(IPC9판)
  • H01L-021/66
  • H01L-021/02
출원번호 10-2012-0043711 (2012-04-26)
공개번호 10-2012-0121852 (2012-11-06)
DOI http://doi.org/10.8080/1020120043711
발명자 / 주소
  • 하야시 마사또 / 일본 야마나시껭 니라사끼시 호사까쪼 미쯔자와 *** 도쿄 엘렉트론 야마나시 가부시끼가이샤 내
  • 히가시 고오다이 / 일본 야마나시껭 니라사끼시 호사까쪼 미쯔자와 *** 도쿄 엘렉트론 야마나시 가부시끼가이샤 내
출원인 / 주소
  • 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 / 일본 도쿄도 미나토쿠 아카사카 *쵸메 *반 *고
대리인 / 주소
  • 성재동; 장수길
심사청구여부 있음 (2012-04-26)
심사진행상태 거절결정(일반)
법적상태 거절

초록

열 처리 기구를 사용하여 기판을 소정의 온도로 열 처리하는 열 처리 장치에 있어서, 상기 열 처리 기구의 온도를 간이한 방법으로 적절하게 교정한다.온도 교정 장치의 온도 검사 지그(10)는, 열 처리판 상에 적재되는 피처리 웨이퍼(70)와, 피처리 웨이퍼(70) 상에 설치된 복수의 휘트스톤 브리지 회로(71)를 갖고 있다.휘트스톤 브리지 회로(71)는, 온도 변화에 따라서 저항값이 변화되는 4개의 측온 저항체(72)와, 접촉자(41)가 접촉하는 4개의 콘택트 패드(73)를 갖고 있다.온도 교정 장치의 제어부에서는, 휘트스톤 브리지

대표청구항

열 처리 기구를 사용하여 기판을 소정의 온도로 열 처리하는 열 처리 장치에 대해, 상기 열 처리 기구의 온도를 측정하기 위한 온도 측정 장치이며,기판과,상기 기판 상에 설치되고, 온도 변화에 따라서 저항값이 변화되는 복수의 측온 저항체를 구비한 휘트스톤 브리지 회로를 갖는 것을 특징으로 하는, 온도 측정 장치.

이 특허에 인용된 특허 (2)

  1. [미국] Wafer to measure pressure at a number of points in a process chamber | Paul Fisher
  2. [미국] Methods of semiconductor processing | Salman Akram, David R. Hembree
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