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폴리실리콘 증착장치 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/공개특허
국제특허분류(IPC9판)
  • H01L-021/205
출원번호 10-2012-0061799 (2012-06-08)
공개번호 10-2013-0138024 (2013-12-18)
DOI http://doi.org/10.8080/1020120061799
발명자 / 주소
  • 박종훈 / 경상북도 경산시 하양읍 동서리 ****-* 하양청구타운 *차 ***동 ***호
  • 김승현 / 대구광역시 수성구 황금동 캐슬골드파크 ****동 ****호
  • 이욱기 / 경기도 수원시 영통구 영통동 주공*단지 ***동 ***호
  • 이창래 / 경상북도 경산시 압량면 신대리 부영아파트 ***동 ***호
  • 강승오 / 경상북도 경산시 압량면 신대리 부영아파트 ***동 ****호
  • 박규동 / 경상북도 경산시 압량면 신대리 부영사랑으로 ***동 ****호
  • 장금상 / 전라북도 임실군 오수면 용정리 ***번지
출원인 / 주소
  • (주)세미머티리얼즈 / 경기도 성남시 분당구 판교로***번길 **, 제*동 *층 (삼평동, 판교세븐벤처밸리*)
대리인 / 주소
  • 에스앤아이피특허법인
심사청구여부 있음 (2012-06-08)
심사진행상태 포기(등록료 미납)
법적상태 포기

초록

본 발명은 폴리실리콘이 증착 완료 후 제품의 생산에 따른 공정 사이클 시간을 감소시킬 수 있도록 구조가 개선된 폴리실리콘 증착장치에 관한 것이다. 본 발명에 따른 폴리실리콘 증착장치는 반응 챔버와, 반응 챔버 내부에 배치되며 전류에 의해 통전되는 한 쌍의 실리콘 로드를 가지고 통전되는 전류에 의해 가열되어 공정가스의 반응에 의해 폴리실리콘이 증착되는 N개의 실리콘 코어로드와, 한 쌍의 실리콘 로드를 갖는 N개의 실리콘 코어로드를 수용하고 공정가스가 공급되어 반응하는 M개의 수용홀을 형성하며 M개의 수용홀에 수용된 실리콘 코어로드의

대표청구항

반응 챔버와;상기 반응 챔버 내부에 배치되며 전류에 의해 통전되는 한 쌍의 실리콘 로드를 가지고 통전되는 전류에 의해 가열되어, 공정가스의 반응에 의해 폴리실리콘이 증착되는 N개의 실리콘 코어로드와;한 쌍의 상기 실리콘 로드를 갖는 N개의 상기 실리콘 코어로드를 수용하고 공정가스가 공급되어 반응하는 M개의 수용홀을 형성하며, M개의 상기 수용홀에 수용된 상기 실리콘 코어로드의 한 쌍의 상기 실리콘 로드를 냉각하는 자켓유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리실리콘 증착장치.

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (1)

  1. [미국] Process for Improved Chemical Vapor Deposition of Polysilicon | Revankar, Vithal, Lahoti, Sanjeev
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