최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
---|---|---|
국제특허분류(IPC9판) |
|
|
출원번호 | 10-2012-0062601 (2012-06-12) | |
공개번호 | 10-2013-0138992 (2013-12-20) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020120062601 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
|
|
대리인 / 주소 |
|
|
심사진행상태 | 취하(심사미청구) | |
법적상태 | 취하 |
본 발명은 반도체 소자에 관한 것으로 특히, 질화물계 반도체 이종접합 반도체 소자 및 그 제조방법에 관한 것이다. 이러한 본 발명은, 질화물 반도체 버퍼층; 상기 버퍼층 상에 위치하는 장벽층; 상기 장벽층 상에 위치하는 캡층; 상기 캡층 상에 위치하는 소스 전극 및 드레인 전극; 상기 캡층 상의 소스 전극 및 드레인 전극 사이에 위치하는 갈륨을 포함하는 유전체 층; 및 상기 캡층 상의 상기 소스 전극 및 드레인 전극 사이에 위치하는 게이트 전극을 포함하여 구성된다.
질화물 반도체 버퍼층;상기 버퍼층 상에 위치하는 장벽층;상기 장벽층 상에 위치하는 캡층;상기 캡층 상에 위치하는 소스 전극 및 드레인 전극;상기 캡층 상의 소스 전극 및 드레인 전극 사이에 위치하는 갈륨을 포함하는 유전체 층; 및 상기 캡층 상의 상기 소스 전극 및 드레인 전극 사이에 위치하는 게이트 전극을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 질화물계 반도체 이종접합 반도체 소자.
해당 특허가 속한 카테고리에서 활용도가 높은 상위 5개 콘텐츠를 보여줍니다.
더보기 버튼을 클릭하시면 더 많은 관련자료를 살펴볼 수 있습니다.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.