초록 ▼

본 발명은 반도체용 기판 등을 열처리하는 기판 열처리 장치의 개구부를 개폐하되, 열처리 과정에서 발생하는 흄 가스의 누출을 최소화하여 장비의 내구성을 향상시키고 누출된 흄 가스으로 인한 장비의 오염 및 제품의 불량을 방지할 수 있는 기판 열처리 장치의 셔터 구조에 관한 것으로서,전면에 복수의 개구부(11)가 형성되고, 개구부(11)에서 누출되는 흄 가스를 흡입하여 제거하는 흡기 덕트(12)가 구비되며, 내부에 상하 방향으로 다수의 적재단이 적층 형성되어 적재단에 적재되는 기판을 열처리하는 열처리 챔버(10)와; 개구부를 각각 개폐하

본 발명은 반도체용 기판 등을 열처리하는 기판 열처리 장치의 개구부를 개폐하되, 열처리 과정에서 발생하는 흄 가스의 누출을 최소화하여 장비의 내구성을 향상시키고 누출된 흄 가스으로 인한 장비의 오염 및 제품의 불량을 방지할 수 있는 기판 열처리 장치의 셔터 구조에 관한 것으로서,전면에 복수의 개구부(11)가 형성되고, 개구부(11)에서 누출되는 흄 가스를 흡입하여 제거하는 흡기 덕트(12)가 구비되며, 내부에 상하 방향으로 다수의 적재단이 적층 형성되어 적재단에 적재되는 기판을 열처리하는 열처리 챔버(10)와; 개구부를 각각 개폐하는 복수의 셔터 부재(30)와; 셔터 부재를 탈부착시키는 셔터 탈부착 유닛(20)과; 열처리 챔버(10)의 양측에 각각 배치된 한 쌍의 볼 스크류(41)에 의해 열처리 챔버(10)의 전면에서 상하로 왕복 이동하며 셔터 탈부착 유닛이 장착되는 베이스 플레이트(42);를 포함함과 아울러, 개구부(11)는 하나의 기판만 출납하도록 각 적재단에 대응하여 형성되고, 흡기 덕트(12)는 개구부의 양측에 각각 형성되는 것을 특징으로 한다.

대표청구항 ▼

전면에 복수의 개구부(11)가 형성되고, 상기 개구부(11)에서 누출되는 흄 가스를 흡입하여 제거하는 흡기 덕트(12)가 구비되며, 내부에 상하 방향으로 다수의 적재단이 적층 형성되어 상기 적재단에 적재되는 기판을 열처리하는 열처리 챔버(10)와;상기 개구부를 각각 개폐하는 복수의 셔터 부재(30)와;상기 셔터 부재를 탈부착시키는 셔터 탈부착 유닛(20)과;상기 열처리 챔버(10)의 양측에 각각 배치된 한 쌍의 볼 스크류(41)에 의해 상기 열처리 챔버(10)의 전면에서 상하로 왕복 이동하며 상기 셔터 탈부착 유닛(20)이 장착되는

전면에 복수의 개구부(11)가 형성되고, 상기 개구부(11)에서 누출되는 흄 가스를 흡입하여 제거하는 흡기 덕트(12)가 구비되며, 내부에 상하 방향으로 다수의 적재단이 적층 형성되어 상기 적재단에 적재되는 기판을 열처리하는 열처리 챔버(10)와;상기 개구부를 각각 개폐하는 복수의 셔터 부재(30)와;상기 셔터 부재를 탈부착시키는 셔터 탈부착 유닛(20)과;상기 열처리 챔버(10)의 양측에 각각 배치된 한 쌍의 볼 스크류(41)에 의해 상기 열처리 챔버(10)의 전면에서 상하로 왕복 이동하며 상기 셔터 탈부착 유닛(20)이 장착되는 베이스 플레이트(42);를 포함하고,상기 개구부(11)는 하나의 기판만 출납하도록 각 적재단에 대응하여 형성되고, 상기 흡기 덕트(12)는 상기 개구부(11)의 양측에 각각 형성되는 것을 특징으로 하는 기판 열처리 장치의 셔터 구조.