초록 ▼

본 발명은 나노 수준의 파우더에 얇은 박막을 코팅하는 파우더 코팅 장치 및 코팅 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 파우더의 균일하고 높은 수준의 박막을 성장시킬 수 있어 코팅 시 고품질의 코팅막을 형성할 수 있으며, 특히 원형을 가진 나노 파우더가 아니더라도 모든 면에 대한 코팅이 가능한 파우더 코팅 장치 및 코팅 방법을 제공하는데 그 목적이 있다. 상기 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 진공 챔버; 상기 진공 챔버 내에 회전가능하고 탈착가능하게 설치되며, 파우더를 코팅하는 리액터(reactor); 상기 리액터를 회전 제어하는

본 발명은 나노 수준의 파우더에 얇은 박막을 코팅하는 파우더 코팅 장치 및 코팅 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 파우더의 균일하고 높은 수준의 박막을 성장시킬 수 있어 코팅 시 고품질의 코팅막을 형성할 수 있으며, 특히 원형을 가진 나노 파우더가 아니더라도 모든 면에 대한 코팅이 가능한 파우더 코팅 장치 및 코팅 방법을 제공하는데 그 목적이 있다. 상기 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 진공 챔버; 상기 진공 챔버 내에 회전가능하고 탈착가능하게 설치되며, 파우더를 코팅하는 리액터(reactor); 상기 리액터를 회전 제어하는 회전 유닛; 상기 리액터 내로 공정 가스를 제공하기 위한 공정가스 공급유닛; 상기 리액터 주위에 설치되어 공정 요구 온도를 제공하는 히터 유닛; 및 상기 진공 챔버 내부를 진공 상태로 하며, 상기 공정가스 공급유닛에 의해 제공된 공정가스를 진공 챔버로부터 배기시키기 위한 진공/배기 유닛을 포함하며, 상기 리액터의 내부에는 그 리액터의 회전으로 내부의 파우더를 견인하며, 파우더가 자중 낙하를 통해 교반되도록 하는 교반 수단을 구비하는 파우더 코팅 장치를 제공한다.

대표청구항 ▼

진공 챔버;상기 진공 챔버 내에 회전가능하고 탈착가능하게 설치되며, 파우더를 코팅하는 리액터(reactor);상기 리액터를 회전 제어하는 회전 유닛;상기 리액터 내로 공정 가스를 제공하기 위한 공정가스 공급유닛;상기 리액터 주위에 설치되어 공정 요구 온도를 제공하는 히터 유닛; 및상기 진공 챔버 내부를 진공 상태로 하며, 상기 공정가스 공급유닛에 의해 제공된 공정가스를 진공 챔버로부터 배기시키기 위한 진공/배기 유닛을 포함하며,상기 리액터의 내부에는 그 리액터의 회전으로 내부의 파우더를 견인하며, 파우더가 자중 낙하를 통해 교반되도

진공 챔버;상기 진공 챔버 내에 회전가능하고 탈착가능하게 설치되며, 파우더를 코팅하는 리액터(reactor);상기 리액터를 회전 제어하는 회전 유닛;상기 리액터 내로 공정 가스를 제공하기 위한 공정가스 공급유닛;상기 리액터 주위에 설치되어 공정 요구 온도를 제공하는 히터 유닛; 및상기 진공 챔버 내부를 진공 상태로 하며, 상기 공정가스 공급유닛에 의해 제공된 공정가스를 진공 챔버로부터 배기시키기 위한 진공/배기 유닛을 포함하며,상기 리액터의 내부에는 그 리액터의 회전으로 내부의 파우더를 견인하며, 파우더가 자중 낙하를 통해 교반되도록 하는 교반 수단을 구비하고,상기 교반수단은 상기 리액터의 내면에서 길이방향으로 소정 간격을 갖고 다수의 단편 블레이드가 형성되며, 상기 단편 블레이드는 상기 리액터의 길이방향을 따라 나선형 형태를 그리면서 배열되게 설치되고, 상기 단편 블레이드는 리엑터의 길이방향으로 평형되게 이격배치되는 계단식 나선구조인 것을 특징으로 하는파우더 코팅 장치.