초록 ▼

다수의 볼형 콜드 플레이트(ball type cold plate)를 적용하여 박막의 증착 및 식각시 프로세스 챔버에서 발생하는 반응부산물이 진공펌프로 흡입되는 것을 적극적으로 차단하며, 반응 부산물이 실제로 포집될 수 있는 유효 표면적을 최대한 확보하여 반응부산물의 포집 효과 및 포집 용량을 증대시키며 포집된 반응부산물에 대해서는 용이하게 제거할 수 있는 개량된 반도체 반응 부산물 트랩장치가 개시된다. 반도체 반응 부산물 트랩장치는 프로세스 챔버 내에서 박막의 증착 및 식각 과정에서 발생하는 반응 부산물을 포집하기 위한 반도체 반응

다수의 볼형 콜드 플레이트(ball type cold plate)를 적용하여 박막의 증착 및 식각시 프로세스 챔버에서 발생하는 반응부산물이 진공펌프로 흡입되는 것을 적극적으로 차단하며, 반응 부산물이 실제로 포집될 수 있는 유효 표면적을 최대한 확보하여 반응부산물의 포집 효과 및 포집 용량을 증대시키며 포집된 반응부산물에 대해서는 용이하게 제거할 수 있는 개량된 반도체 반응 부산물 트랩장치가 개시된다. 반도체 반응 부산물 트랩장치는 프로세스 챔버 내에서 박막의 증착 및 식각 과정에서 발생하는 반응 부산물을 포집하기 위한 반도체 반응 부산물 트랩장치로서, 입구와 출구가 대향 배치되는 중공의 제1 하우징, 제1 하우징 내에 적어도 하나 또는 그 이상 배치되는 쿨링 파이프, 제1 하우징의 내부에 채워지며 서로에 대하여 부분 접촉되는 다수의 볼형 콜드 플레이트(ball type cold plate)로 구성되는 제1 트랩을 포함한다. 제2 트랩은 제1 하우징의 출구에 연결되는 중공의 제2 하우징, 제2 하우징의 내부에 제공된다. 콜드 플레이트의 외주면에는 자체에 소정의 오목한 공간이 형성되어 다수개가 서로 접촉되었을 때 가스의 통로가 형성된다.

대표청구항 ▼

프로세스 챔버 내에서 박막의 증착 및 식각 과정에서 발생하는 반응 부산물을 포집하기 위한 반도체 반응 부산물 트랩장치로서, 입구와 출구가 대향 배치되는 중공의 제1 하우징, 상기 제1 하우징 내에 적어도 하나 또는 그 이상 배치되는 쿨링 파이프, 상기 제1 하우징의 내부에 채워지며 서로에 대하여 부분 접촉되는 다수의 볼형 콜드 플레이트(ball type cold plate)로 구성되는 제1 트랩; 및 상기 제1 하우징의 출구에 연결되는 중공의 제2 하우징, 상기 제2 하우징의 내부에 제공되는 히트 부재(heat member)로 구성

프로세스 챔버 내에서 박막의 증착 및 식각 과정에서 발생하는 반응 부산물을 포집하기 위한 반도체 반응 부산물 트랩장치로서, 입구와 출구가 대향 배치되는 중공의 제1 하우징, 상기 제1 하우징 내에 적어도 하나 또는 그 이상 배치되는 쿨링 파이프, 상기 제1 하우징의 내부에 채워지며 서로에 대하여 부분 접촉되는 다수의 볼형 콜드 플레이트(ball type cold plate)로 구성되는 제1 트랩; 및 상기 제1 하우징의 출구에 연결되는 중공의 제2 하우징, 상기 제2 하우징의 내부에 제공되는 히트 부재(heat member)로 구성되는 제2 트랩; 을 포함하며, 상기 제1 하우징은 원통형으로 형성되고, 상기 제1 하우징은 일측이 개방되며 타측이 폐쇄되는 중공의 외부 하우징; 상기 외부 하우징의 내부에 끼워져 제공되며, 각각의 상기 콜드 플레이트가 채워지는 내부 하우징; 및 상기 외부의 개방된 부분을 덮어 상기 내부 하우징을 폐쇄시키는 덮개; 를 포함하고, 상기 콜드 플레이트의 외주면에는 자체에 소정의 오목한 공간이 형성되어 다수개가 서로 접촉되었을 때 가스의 통로가 형성되는 것을 특징으로 하는 반도체 반응 부산물 트랩장치.