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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 | 10-2012-0080596 (2012-07-24) | |
등록번호 | 10-1232770-0000 (2013-02-06) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020120080596 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2012-07-24) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것으로써, 기판이 처리되는 내부공간이 형성되는 챔버와, 상기 챔버 내부에 상하방향으로 이격되어 배치되는 복수의 가열유닛 집합체를 포함함으로써, 복수의 가열유닛 집합체 사이에 기판을 배치하여 복수의 기판을 동시에 급속 열처리하여 공정의 효율성 및 생산성을 증가시킬 수 있다.
기판이 처리되는 내부공간이 형성되는 챔버와;나란하게 배치되는 복수의 가열 유닛을 각각 포함하여 상기 챔버 내부에 상하방향으로 이격되어 배치되는 복수의 가열유닛 집합체;를 포함하고,상기 가열유닛은, 방사광을 방출하는 열원유닛;상기 열원유닛 하부에 상기 열원유닛의 길이 방향을 따라 배치되어 상기 열원유닛에서 방출되는 방사광을 반사시키고, 내부에 냉각 라인이 형성된 반사체; 및상기 반사체의 상부에 설치되어, 상기 기판을 지지하는 적어도 하나의 지지체를 포함하며,상기 챔버를 관통하여 상기 냉각 라인과 연통되도록 상기 반사체에 연결되는 냉각
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