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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2019-0059791 (2019-05-22) | |
공개번호 | 10-2020-0033715 (2020-03-30) | |
등록번호 | 10-2248942-0000 (2021-04-29) | |
우선권정보 | 대한민국(KR) 1020180112622 (2018-09-20) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020190059791 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2019-05-22) | |
심사진행상태 | 등록결정(재심사후) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 기판처리장치에 대한 것으로서, 보다 상세하게는 대면적 기판에 대한 공정을 수행하는 기판처리장치에 있어서 기판처리장치의 챔버 내부로 각종 가스를 공급하는 경우에 가스를 균일하게 기판처리장치의 내부에서 분산시킬 수 있는 기판처리장치에 대한 것이다.
기판에 대한 처리공간을 제공하는 챔버;상기 챔버 내측의 상부에 구비되는 백킹플레이트와, 상기 백킹플레이트의 하면에 이격되어 연결되며 공정가스 또는 세정가스를 공급하는 샤워헤드를 구비하는 가스공급유닛;상기 가스공급유닛으로 공정가스를 공급하는 공정가스 공급유닛;상기 가스공급유닛으로 활성화된 세정가스를 공급하는 적어도 둘 이상의 세정가스 공급유닛; 및상기 챔버의 뷰포트(view port) 외측에 구비되어 상기 챔버 내부의 세정정도를 감지하는 세정감지센서유닛;을 구비하고,상기 세정감지센서유닛은 상기 뷰포트를 향해 광을 투사하는 투사부와,
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