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[한국특허] 투명전도막이 코팅된 기판에 대한 금속 배선 방법
Metal patterning method for Transparent film coating substrate
원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • H01B-013/00
  • H01B-005/14
  • G06F-003/041
출원번호 10-2012-0087580 (2012-08-10)
등록번호 10-1348118-0000 (2013-12-30)
DOI http://doi.org/10.8080/1020120087580
발명자 / 주소
  • 허승헌 / 서울특별시 동작구 여의대방로**길 ** ***-***(신대방동, 보라매롯데낙천대아파트)
  • 김다혜 / 강원도 춘천시 영서로 ****번지 ***동 ***호
  • 유도형 / 서울특별시 양천구 목동동로 *** ****동 ***호(신정동, 목동신시가지아파트**단지)
  • 송철규 / 서울특별시 도봉구 도봉로***길 ** ***동 ***호, 우암센스뷰아파트 (방학동)
  • 박성환 / 경기도 오산시 경기대로 *** ****호, 대동다숲주상복합아파트 (오산동)
  • 김보민 / 서울특별시 강서구 강서로**가길 ** ***동 ***호, 중앙화곡하이츠 (화곡동)
출원인 / 주소
  • (주)솔라세라믹 / 서울특별시 금천구 디지털로**길 **, 한국세라믹기술원 벤쳐관 ***호 (가산동)
  • 한국세라믹기술원 / 서울특별시 금천구 디지털로**길 ** (가산동)
대리인 / 주소
  • 조성광
심사청구여부 있음 (2012-08-10)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 소멸

초록

본 발명은 기판 상층부에 코팅된 투명전도막을 레이저 스크라이빙(Laser Scribing) 방식으로 깎아 노출된 기판 부분에 선택적으로 금속도선이 형성되도록 하는 "투명전도막이 코팅된 기판에 대한 금속 배선 방법"에 관한 것이다.본 발명은 「(a) 투명전도막이 코팅된 기판을 준비하는 단계; (b) 레이저 스크라이빙(laser scribing)을 통해 상기 투명전도막을 필요한 부분만큼 깎아내어 기판을 노출시키는 단계; 및 (c) 노출된 기판 부분에 금속도선을 형성시키는 단계; 를 포함하는 투명전도막이 코팅된 기판에 대한 금속 배선 방

대표청구항

삭제

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  1. [한국] 투명 전도성 필름 및 터치패널 | 코바야시타이치, 코츠보히데푸미, 이와부치요시노리, 니시다미츠히로, 쿠사노유키히로, 오노신고, 요시카와마사토
  2. [한국] 폴리이미드 수지의 무기 박막 형성방법 및 표면 개질된무기 박막 형성용 폴리이미드 수지의 제조방법 | 야나기모토 히로시, 나와후네 히데미, 아카마츠 겐스케
  3. [한국] In-situ 레이저 스크라이빙 장치 | 백우성, 장창영
  4. [한국] 금속산화물막의 패턴 제작방법 및 이를 이용한유기발광소자의 제작 방법 | 남궁성태, 박석주, 김철환

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  1. [한국] 플라즈마 광폭 전기전도성막 식각 방법 | 허승헌, 송철규
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