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| 국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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| 국제특허분류(IPC8판) |
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| 출원번호 | 10-2014-0047059 (2014-04-19) | |
| 공개번호 | 10-2015-0120821 (2015-10-28) | |
| DOI | http://doi.org/10.8080/1020140047059 | |
| 발명자 / 주소 |
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| 출원인 / 주소 |
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| 대리인 / 주소 |
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| 심사청구여부 | 있음 (2014-04-19) | |
| 심사진행상태 | 거절결정(재심사) | |
| 법적상태 | 거절 |
본 발명은 피분석물의 고온 거동 또는 특성 분석을 위한 고온 광학 분석 장치 및 이를 이용한 광학 분석 방법에 관한 것이다.본 발명의 일 실시예에 따른 고온 광학 분석 장치는, 적어도 어느 하나는 투명하고 서로 평행하게 이격 배치되어 에어 갭을 정의하며, 상기 에어 갭 내에 피분석물이 배치되는 평판형 제 1 및 제 2 기판들을 포함하는 고온 챔버; 및 상기 피분석물을 분석하기 위한 광학 분석 장치를 포함하며, 상기 제 1 및 제 2 기판들 중 적어도 어느 하나는 온도 제어 가능한 발열 기판이다.
적어도 어느 하나는 투명하고 서로 평행하게 이격 배치되어 에어 갭을 정의하며, 상기 에어 갭 내에 피분석물이 배치되는 평판형 제 1 및 제 2 기판들을 포함하는 고온 챔버; 및상기 피분석물을 분석하기 위한 광학 분석 장치를 포함하며,상기 제 1 및 제 2 기판들 중 적어도 어느 하나는 온도 제어 가능한 발열 기판인 인시츄 고온 광학 분석 장치.
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