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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2012-0095892 (2012-08-30) | |
공개번호 | 10-2013-0025830 (2013-03-12) | |
등록번호 | 10-1682005-0000 (2016-11-28) | |
우선권정보 | 대한민국(KR) 1020110089175 (2011-09-02) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020120095892 | |
발명자 / 주소 | ||
출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2014-01-28) | |
심사진행상태 | 등록결정(재심사후) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명은 제조 공정을 단순화시킴과 아울러 제조 공정 시간을 줄일 수 있는 p-n 접합 기판 제조에 사용되는 수평형/수직형 디바이스 형성을 위한 포토레지스트용 스트리퍼(stripper) 조성물, 이를 사용하는 포토레지스트의 박리 방법과 이를 통해 제조되는 액정표시장치 또는 반도체 소자에 관한 것이다.
a) 수용성 유기 아민 화합물로서, 모노에탄올 아민, N-메틸아미노에탄올, 및 2-(2-아미노에톡시)-1-에탄올로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 5 내지 30 중량%로 포함하고;b) 양자성 알킬렌글리콜 모노알킬에테르 화합물로서, 디에틸렌글리콜 t-부틸에테르를 0.01 내지 20 중량%로 포함하고; c) 비양자성 용매로서, N-메틸피롤리돈로 15 내지 50 중량%로 포함하고, 추가로 N-메틸포름아마이드, 디메틸설폭사이드, 및 디메틸아세트아마이드로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 34 내지 59 중량%로 포함하고;d
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