초록

본 발명은 제조 공정을 단순화시킴과 아울러 제조 공정 시간을 줄일 수 있는 p-n 접합 기판 제조에 사용되는 수평형/수직형 디바이스 형성을 위한 포토레지스트용 스트리퍼(stripper) 조성물, 이를 사용하는 포토레지스트의 박리 방법과 이를 통해 제조되는 액정표시장치 또는 반도체 소자에 관한 것이다.

대표청구항 ▼

a) 수용성 유기 아민 화합물로서, 모노에탄올 아민, N-메틸아미노에탄올, 및 2-(2-아미노에톡시)-1-에탄올로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 5 내지 30 중량%로 포함하고;b) 양자성 알킬렌글리콜 모노알킬에테르 화합물로서, 디에틸렌글리콜 t-부틸에테르를 0.01 내지 20 중량%로 포함하고; c) 비양자성 용매로서, N-메틸피롤리돈로 15 내지 50 중량%로 포함하고, 추가로 N-메틸포름아마이드, 디메틸설폭사이드, 및 디메틸아세트아마이드로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 34 내지 59 중량%로 포함하고;d

a) 수용성 유기 아민 화합물로서, 모노에탄올 아민, N-메틸아미노에탄올, 및 2-(2-아미노에톡시)-1-에탄올로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 5 내지 30 중량%로 포함하고;b) 양자성 알킬렌글리콜 모노알킬에테르 화합물로서, 디에틸렌글리콜 t-부틸에테르를 0.01 내지 20 중량%로 포함하고; c) 비양자성 용매로서, N-메틸피롤리돈로 15 내지 50 중량%로 포함하고, 추가로 N-메틸포름아마이드, 디메틸설폭사이드, 및 디메틸아세트아마이드로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 34 내지 59 중량%로 포함하고;d) 부식방지제로서, 하기 화학식 4로 표시되는 화합물 및 하기 화학식 5로 표시되는 화합물을 각각 0.7 중량% 및 0.2 중량%로 포함하는, p-n 접합 기판 제조에 사용되는 수평형 또는 수직형 LED 디바이스 형성을 위한 포토레지스트용 스트리퍼 조성물.[화학식 4][화학식 5]