최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
---|---|---|
국제특허분류(IPC9판) |
|
|
출원번호 | 10-2012-0102116 (2012-09-14) | |
등록번호 | 10-1297989-0000 (2013-08-13) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020120102116 | |
발명자 / 주소 |
|
|
출원인 / 주소 |
|
|
대리인 / 주소 |
|
|
심사청구여부 | 있음 (2012-09-14) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 발명에서는, 기존 활성도가 높은 생석회만을 분말 가공하여 제조하던 방식에서 생석회의 활성도에 관계없이 원료 전체를 고반응성 소석회의 원료로서 사용가능한 제조 방법으로, 활성도에 따라 첨가제 종류 및 첨가제의 투입량을조절함으로써, 생석회 변화에도 균일하고, 비표면적이 높은 소석회를 제조함을 물론, 더욱이 소석회의 기공사이즈를 작게 함에 따라,유해물질 제거 효능이 우수한, 비표면적이 높은 고반응 분말소석회 제조방법을 제공한다.
비표면적이 높은 고반응 분말소석회 제조방법으로서,생석회 수화시 생석회 100중량부에 대하여, 40~120중량부의 물과, 0.2~1중량부의 구연산 그리고 0.5~3중량부의 디에틸렌글리콜을 첨가하여 용해 후 수화반응기에서 30~80분간 수화반응을 거쳐 소석회를 제조하고, 입도제어를 위해 레이몬드밀이나 볼밀을 사용하여 325~500메쉬 입도를 갖게 분쇄하여 이루어지는, 비표면적이 높은 고반응 분말소석회 제조방법.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.