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[한국특허] 트렌지스터 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/공개특허
국제특허분류(IPC8판)
  • H01L-029/786
  • H01L-021/336
출원번호 10-2012-0144265 (2012-12-12)
공개번호 10-2014-0076106 (2014-06-20)
DOI http://doi.org/10.8080/1020120144265
발명자 / 주소
  • 차홍기 / 서울 강서구 공항대로**길 **, ***동 ****호 (염창동, 롯데캐슬아파트)
  • 안성덕 / 대전 유성구 엑스포로 ***, ***동 ****호 (전민동, 엑스포아파트)
  • 황치선 / 대전 유성구 전민로 **, ***동 ****호 (전민동, 삼성푸른아파트)
출원인 / 주소
  • 한국전자통신연구원 / 대전광역시 유성구 가정로 *** (가정동)
대리인 / 주소
  • 권혁수; 송윤호; 오세준
심사진행상태 취하(심사미청구)
법적상태 취하

초록

본 발명의 실시예에 따른 트렌지스터는 활성층 및 상기 활성층에 접하는 게이트 절연막을 포함할 수 있다. 활성층 및 게이트 절연막은 동일한 물질의 산화물을 포함할 수 있다. 게이트 절연막은 활성층보다 높은 산소람량비를 가지는 산화물을 포함할 수 있다. 활성층 및 게이트 절연막이 동일한 물질을 포함함에 따라, 트렌지스터 구동 시 활성층 내에서 높은 전하이동도가 나타날 수 있다. 트렌지스터의 제조공정에서 활성층 및 게이트 절연막은 동일한 스퍼터링 챔버 내에서 산소분압비만 달리한 채, 동일한 물질을 증착하여 형성할 수 있다.

대표청구항

기판 상의 소스/드레인 전극; 상기 기판 상에서 상기 소스/드레인 전극의 가장자리와 접하는 활성층;상기 기판 상에 제공되며, 상기 활성층에 대응하는 게이트 전극;상기 활성층 및 상기 게이트 전극 사이에 개재된 게이트 절연막; 그리고상기 게이트 전극 상에 배치되며, 상기 활성층을 덮는 패시베이션층을 포함하되, 상기 활성층은 제1 산화물을 포함하고, 상기 게이트 절연막은 제2 산화물을 포함하며, 상기 제1 산화물은 상기 제2 산화물과 동일한 물질로 구성되고, 제2 산화물보다 더 낮은 산소함량비를 가지는 트렌지스터.

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