[보고서]CVD에 의한 양질의 절연막 제작 연구개발

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[국가R&D연구보고서] CVD에 의한 양질의 절연막 제작 연구개발

보고서 정보
주관연구기관	한국전자통신연구원 Electronics and Telecommunications Research Institute
연구책임자	장진
참여연구자	전정목 , 이경하 , 김광남 , 유순성 , 우재익 , 김성기
발행국가	대한민국
언어	한국어
발행년월	1993-03
등록번호	TRKO200500015975
DB 구축일자	2013-04-18

초록

차세대 기억소자 제작에 사용될 수 있는 양질의 thin 옥사이드. 실리콘 나이트라이드, oxynitride막을 remote plasma-CVD 방법으로 제작하는 기술을 개발함(Thermal 와 같은 질의 절연 막을 350℃에서 제작함)

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