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연합인증

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카바졸 노볼락 수지 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/등록특허
국제특허분류(IPC8판)
  • C08G-016/02
  • C08G-061/12
  • G03F-007/09
  • G03F-007/11
  • G03F-007/26
출원번호 10-2012-7001404 (2012-01-18)
공개번호 10-2012-0038447 (2012-04-23)
등록번호 10-1860385-0000 (2018-05-16)
우선권정보 일본(JP) JP-P-2009-146289 (2009-06-19)
국제출원번호 PCT/JP2010/060223 (2010-06-16)
국제공개번호 WO 2010/147155 (2010-12-23)
번역문제출일자 2012-01-18
DOI http://doi.org/10.8080/1020127001404
발명자 / 주소
  • 사이토, 다이고 / 일본, 치바 *******, 푸나바시-시, 츠보이-니시 *-쵸메, **-*, 닛산 가가쿠 고교 가부시키가이샤 물질과학연구소내
  • 오쿠야마, 히로아키 / 일본, 토야마 *******, 토야마-시, 후추-마치, 사사쿠라, ***, 닛산 가가쿠 고교 가부시키가이샤 전자 재료 연구소내
  • 무사시, 히데키 / 일본, 치바 *******, 푸나바시-시, 츠보이-니시 *-쵸메, **-*, 닛산 가가쿠 고교 가부시키가이샤 물질과학연구소내
  • 신조, 테츠야 / 일본, 토야마 *******, 토야마-시, 후추-마치, 사사쿠라, ***, 닛산 가가쿠 고교 가부시키가이샤 전자 재료 연구소내
  • 하시모토, 케이스케 / 일본, 토야마 *******, 토야마-시, 후추-마치, 사사쿠라, ***, 닛산 가가쿠 고교 가부시키가이샤 전자 재료 연구소내
출원인 / 주소
  • 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤 / 일본 도쿄도지요다구 간다니시키쵸 *쵸메 *반지*
대리인 / 주소
  • 특허법인씨엔에스
심사청구여부 있음 (2015-04-24)
심사진행상태 등록결정(일반)
법적상태 등록

초록

[과제] 반도체 장치 제조의 리소그래피 프로세스에 이용하기 위한 내열성을 구비한 레지스트 하층막, 그리고 전자 디바이스에 이용하기 위한 투명성을 구비한 고굴절률막을 제공한다.[해결수단] 하기 식(1): 식(1) 중, R1, R2, R3 및 R5는 각각 수소원자를 나타내고, R4는 페닐기 또는 나프틸기로 표시되는 단위구조를 포함하는 폴리머. 상기 폴리머를 포함하는 레지스트 하층막 형성 조성물 및 이로부터 형성되는 레지스트 하층막. 상기 폴리머를 포함하는 고굴절률막 형성 조성물 및 이로부터 형성되는 고굴절률막.

대표청구항

하기 식(1'): 식(1')(식(1') 중, R1, R2 및 R3는 각각 수소원자를 나타내고,R4 및 R5는 이들이 결합되는 탄소원자와 함께 플루오렌환을 형성하며, 이 때, 이 탄소원자는 형성된 상기 플루오렌환의 9위치의 탄소원자이며,n1 및 n2는 각각 3의 정수이다.)로 표시되는 단위구조를 포함하는, 중량평균 분자량이 1000 내지 6400인 폴리머.

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (3)

  1. [미국] Ferromagnetic organic substance having triaryl methane structure and process for manufacturing the same | Otani Sugio (Kiryu JPX) Kojima Akira (Kiryu JPX) Ota Michiya (Maebashi JPX)
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  2. [일본] MAGNETIC INK | YANAI MASAHIRO
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  3. [미국] Bottom resist layer composition and patterning process using the same | Hatakeyama,Jun
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이 특허를 인용한 특허 (6)

  1. [한국] 중합체, 유기막 조성물, 유기막, 및 패턴형성방법 | 남궁란, 권효영, 김승현, 라뜨웰 도미니아, 문수현, 정현일, 허유미
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  2. [한국] 중합체, 유기막 조성물, 유기막, 및 패턴형성방법 | 문수현, 권효영, 남궁란, 남연희, 송현지
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  3. [한국] 하드마스크용 조성물 | 최한영, 양돈식, 양진석, 박근영
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  4. [한국] 중합체, 유기막 조성물, 및 패턴형성방법 | 박유신, 김태호, 최유정, 강선혜, 권효영, 김상균, 김영민, 남연희, 송현지, 윤벼리, 이동근, 정슬기
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  5. [한국] 벤조카바졸 유도체를 함유하는 반사방지용 하드마스크 조성물 | 최상준
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  6. [한국] 신규 중합체 및 이를 포함하는 반도체 제조용 레지스트 하층막 조성물 | 박주현, 최익호, 안금실
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