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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2012-7021949 (2012-08-22) | |
공개번호 | 10-2012-0135403 (2012-12-13) | |
등록번호 | 10-1635664-0000 (2016-06-27) | |
우선권정보 | 일본(JP) JP-P-2010-060772 (2010-03-17);일본(JP) JP-P-2010-060774 (2010-03-17);일본(JP) JP-P-2010-060775 (2010-03-17);일본(JP) JP-P-2010-060776 (2010-03-17) | |
국제출원번호 | PCT/JP2011/056407 (2011-03-17) | |
국제공개번호 | WO 2011/115213 (2011-09-22) | |
번역문제출일자 | 2012-08-22 | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020127021949 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2015-11-05) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
니켈 나노 입자의 제조 방법은, COOH 기를 제외한 부분의 탄소수가 1 ∼ 12 인 카르복실산 니켈 및 1 급 아민의 혼합물을 가열하여 니켈 착물을 생성시킨 착화 반응액을 얻는 제 1 공정과, 착화 반응액을 마이크로파로 가열하여 니켈 나노 입자 슬러리를 얻는 제 2 공정을 갖는다. 제 1 공정에 있어서, 105 ∼ 175 ℃ 의 온도로 15 분 이상 가열하는 것이 바람직하다. 제 2 공정에 있어서, 180 ℃ 이상의 온도로 가열하는 것이 바람직하다.
COOH 기를 제외한 부분의 탄소수가 1 ∼ 12 인 카르복실산 니켈 및 1 급 아민을 함유하는 혼합물을 105 ℃ 이상 ∼ 175 ℃ 이하의 범위 내의 온도로 가열하여 니켈 착물을 생성시킨 착화 반응액을 얻는 제 1 공정과, 상기 착화 반응액을 마이크로파로 180 ℃ 이상의 온도로 가열하여 니켈 나노 입자 슬러리를 얻는 제 2 공정을 갖는 니켈 나노 입자의 제조 방법.
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