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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2014-0091337 (2014-07-18) | |
등록번호 | 10-1478555-0000 (2014-12-26) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020140091337 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2014-07-18) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 소멸 |
고온 플라즈마를 이용한 Ni 나노파우더 및 그 제조 방법에 대하여 개시한다. 본 발명에 따른 Ni 나노파우더 제조 방법은 (a) 8000~12000℃의 고온 플라즈마 영역에 Ni 파우더 모재를 투입하여, 고온 플라즈마에 의해 Ni 파우더 모재를 기화시켜 Ni 증기를 형성하는 단계; (b) 상기 Ni 증기를 냉각 가스에 접촉시켜, Ni 파우더를 형성하는 단계; 및 (c) Ni 파우더를 분급하여, 평균입경이 50~100nm이고, 최대 입경과 최소 입경 차이가 100nm 이하인 Ni 나노파우더를 얻는 단계;를 포함하고, 상기 냉각 가스에
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