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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2012-7033000 (2012-12-17) | |
공개번호 | 10-2014-0003320 (2014-01-09) | |
등록번호 | 10-1779636-0000 (2017-09-12) | |
우선권정보 | 미국(US) 13/156,865 (2011-06-09);미국(US) 61/354,377 (2010-06-14) | |
국제출원번호 | PCT/US2011/040216 (2011-06-13) | |
국제공개번호 | WO 2011/159625 (2011-12-22) | |
번역문제출일자 | 2012-12-17 | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020127033000 | |
발명자 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2016-06-09) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
자동공정제어(APC ; Automatic process control) 성능을 모니터링 하기 위한 본 방법은, 비제한적인 예시로서, 반도체 디바이스들의 하나 이상의 생산 로트에 대해 하나 이상의 APC 성능 지표를 계산하는 단계; 및 반도체 디바이스들의 하나 이상의 생산 로트에 하나 이상의 APC 성능 지표의 맵핑을 디스플레이하는 단계를 포함할 수 있다.
자동 공정 제어(APC; automatic process control)의 성능을 모니터링하기 위한 방법에 있어서, 오버레이 제어 모델에 따라 제어되는 반도체 제조 디바이스에 의해 제조되는 하나 이상의 반도체 디바이스들에 대한 적어도 하나의 계측(metrology) 검사와 관련된 오버레이 오류 데이터를 수신하는 단계;상기 오버레이 제어 모델에 따라 적어도 하나의 잔차(residual) 오버레이 값을 계산하는 단계;상기 하나 이상의 반도체 디바이스들과 관련된 상기 오버레이 오류 데이터와, 상기 오버레이 제어 모델로부터 계산된 상기 잔
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