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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2013-0067795 (2013-06-13) | |
공개번호 | 10-2014-0101264 (2014-08-19) | |
등록번호 | 10-1511424-0000 (2015-04-06) | |
우선권정보 | 미국(US) 13/762,547 (2013-02-08) | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020130067795 | |
발명자 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2013-06-13) | |
심사진행상태 | 등록결정(일반) | |
법적상태 | 등록 |
본 개시는 개선된 스텝 커버리지를 제공하는 플라즈마 향상된 원자층 증착(PEALD) 공정을 수행하는 방법 및 장치에 관한 것이다.일부 실시예들에서, 본 개시는 플라즈마 향상된 원자층 증착(PEALD) 공정에 관한 것이다.PEALD 공정은 반도체 가공물을 포함하는 프로세싱 챔버 안으로 전구체 가스를 도입한다.이러한 제 1 가스는 이온화되어 복수의 이온화된 전구체 분자를 형성한다.그 뒤에, 바이어스 전압이 가공물에 인가된다.바이어스 전압은 가공물에 이온화된 전구체 분자를 끌어들여, 가공물의 이방성 커버리지에 전구체 가스를 제공하도록 한
플라즈마 향상된 원자층 증착(plasma enhanced atomic layer deposition; PEALD) 시스템에 있어서,반도체 가공물을 수용하도록 구성된 프로세싱 챔버 안으로 전구체 가스를 제공하도록 구성된 전구체 가스 주입구;상기 프로세싱 챔버 안으로 반응 가스를 제공하도록 구성된 반응 가스 주입구;상기 전구체 가스를 이온화하여 복수의 이온화된 전구체 분자를 형성하고 그 뒤에 상기 반응 가스로부터 플라즈마를 점화하도록 구성된 이온화 컴포넌트로서, 상기 플라즈마는 상기 이온화된 전구체 분자와 상기 반응 가스 간의 반응을
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